大型放射光施設 SPring-8

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熱処理過程におけるゼオライト担持Au触媒のin-situ局所構造解析

  • Spring8ならでは

問い合わせ番号

SOL-0000001254

ビームライン

BL01B1(XAFS I)

学術利用キーワード

A. 試料 無機材料
B. 試料詳細 非晶質、ガラス
C. 手法 吸収、及びその二次過程
D. 手法の詳細 XAFS, EXAFS, XANES
E. 付加的測定条件 偏光(直線), 高温(〜500度), 時分割(比較的遅い)
F. エネルギー領域 X線(4~40 keV)
G. 目的・欲しい情報 局所構造, 構造変化, 機能構造相関, 機能発現

産業利用キーワード

階層1 化学製品, その他
階層2 触媒
階層3
階層4 局所構造, 電子状態, 化学状態
階層5 XAFS, NEXAFS

分類

A80.34 触媒化学, M40.10 XAFS

利用事例本文

本事例ではCO酸化反応に活性をもつゼオライト担持Au触媒についてAu L3吸収端でin-situ EXAFS測定を行い、熱処理過程における局所構造変化の解析を行いました。In-situ EXAFS法は、反応過程にある試料に対して、目的元素の周囲の局所構造(近接原子間の距離、配位数、原子種)を解析できる強力な手法です。昇温中の構造変化を高速に追跡するために、測定にはクイックXAFS法(QXAFS法)を用いました。図1は、EXAFS振動 をフーリエ変換して得られた昇温過程におけるAu原子の動径構造関数です。図2は、図1の解析から求められたAuの最近接Auの配位数の温度依存性です。解析結果から、H-Y及びUSYゼオライト担持Auは、熱処理時に適当なサイズのAuクラスターが生成され、これが高活性を持つ理由であることが分かりました。

図1 昇温過程におけるAU/H-Yゼオライト内のAu原子の動径構造関数

図2 Auの周りの最近接Auの配位数の温度依存性

[ K. Okumura, K. Yoshino, K. Kato and M. Niwa, The Journal of Physical Chemistry B 109, 12380-12386 (2005), Fig. 6, 8,
©2005 American Chemical Society ]

 

画像ファイルの出典

原著論文/解説記事

誌名

J. Phys. Chem. B, 109 (2005) 12380

図番号

6, 8

測定手法

比較的濃度の高い試料に対するXAFSスペクトルは、目的元素の吸収端付近で、試料によるX線吸収量をX線エネルギーの関数として測定することで得られます(透過XAFS法)。現在、透過法XAFS測定のほとんどはQXAFS法により行われており、高い質のデータが短時間で得られています。本事例では計測時間は、1測定あたり1分です。

画像ファイルの出典

図なし

測定準備に必要なおおよその時間

4 時間

測定装置

装置名 目的 性能
XAFS測定装置 XAFSスペクトルの計測 3.8-113 keV
イオンチェンバー 透過法XAFSの測定 濃度:1000 ppm以上

参考文献

文献名
K. Okumura et al., J. Phys. Chem. B, 109 (2005) 12380

関連する手法

アンケート

SPring-8だからできた測定。他の施設では不可能もしくは難しい
本ビームラインの主力装置を使っている
最近2年以内に導入した装置を使った事例
ユーザー持ち込み装置を使った

測定の難易度

中程度

データ解析の難易度

中程度

図に示した全てのデータを取るのにかかったシフト数

1シフト以下

最終変更日 2022-05-06 15:21