2008年前期実施課題2008A一覧:重点産業利用課題
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S/N |
課題番号 |
実験責任者名 |
課題名 |
実施時所属 |
所属大分類 |
研究分野 |
実施シフト |
国名 |
ビームライン |
成果専有 /非専有 |
1 | 2008A1766 | 田中 良彦 | 原子炉構造材のピーニング残留応力の回折面依存性 | 東京電力(株) | 産業界 | 産業利用 | 12 | 日本 | BL02B1 | 非専有 |
2 | 2008A1820 | 安川 勝正 | 高分解能X線回折によるBa1-xCaxTiO3の精密結晶構造解析 | 京セラ(株) | 産業界 | 物質科学・材料科学 | 3 | 日本 | BL02B2 | 非専有 |
3 | 2008A1843 | 橋爪 大輔 | 有機工業材料系を対象とした放射光利用粉末X線結晶構造解析の応用研究 | (独)理化学研究所 | 国公立研究機関等 | 産業利用 | 11.375 | 日本 | BL02B2 | 非専有 |
4 | 2008A1777 | 野上 正行 | コンテナレス法により作製したAl2O3-SiO2系ガラスの構造解析 | 名古屋工業大学 | 大学等教育機関 | 物質科学・材料科学 | 3 | 日本 | BL04B2 | 非専有 |
5 | 2008A1761 | 篠田 弘造 | クロム含有ステンレス製鋼スラグ廃棄物からの6価クロム溶出挙動解析のための表面敏感XAFS | 東北大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
6 | 2008A1762 | 小林 義徳 | XAFSによるCa,Sr-La-Co系M型フェライトの金属イオンのサイト分布解析 | 日立金属(株) | 産業界 | 産業利用 | 8.875 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
7 | 2008A1767 | 山嵜 悟 | セラミック釉薬中に存在するAgの抗菌機構の解明 | (株)INAX | 産業界 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
8 | 2008A1780 | 伊藤 孝憲 | 固体酸化物型燃料電池(SOFC)空気極材料の高温におけるA,Bサイトの酸素配位数、金属 酸素結合長の考察 | AGCセイミケミカル(株) | 産業界 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
9 | 2008A1789 | 小西 康裕 | 銀イオンのコーティングによる洗濯衣類の抗菌防臭メカニズムに関する研究 (XAFS測定による微生物細胞と金属イオンとの相互作用の解明に関する研究) |
大阪府立大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
10 | 2008A1800 | 宮田 俊弘 | 蛍光分光XAFS法による第2不純物共添加金属酸化物透明導電膜の局所構造と伝導機構の関係の解明(II) | 金沢工業大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 9 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
11 | 2008A1804 | 入山 恭寿 | 全固体リチウム二次電池の高出入力化に向けた高機能遷移相の形成機構の解明 | 静岡大学 | 大学等教育機関 | 化学 | 3 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
12 | 2008A1816 | 高木 由紀夫 | 担持パラジウムをサブナノサイズにコントロールしたデンドリマー触媒の製品化のための実験室的な検査方法の開発(XAFSとの相関性の取得) | エヌ・イーケムキャット(株) | 産業界 | 産業利用 | 9 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
13 | 2008A1825 | 小泉 直人 | 時間分解EXAFS分光法によるCo/SiO2触媒の乾燥,焼成過程におけるCoナノクラスターの動的構造変化のin-situ観察:含浸溶液へのキレート剤添加の影響 | 東北大学 | 大学等教育機関 | 化学 | 11.875 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
14 | 2008A1828 | 木村 薫 | ボロン系アモルファス固体への遷移金属ドープによる結合転換と高抵抗チップ材料の開発に関する研究 | 東京大学 | 大学等教育機関 | 物質科学・材料科学 | 1 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
15 | 2008A1830 | 藤川 陽子 | 鉄バクテリア・フロックにおける3価砒素の酸化抑制の検討 地下水中砒素除去の高速生物濾過法の最適化のために | 京都大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 11.75 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
16 | 2008A1837 | 國本 崇 | XAFSによるEu2+添加真空紫外線励起用蛍光体の劣化解析 | 徳島文理大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
17 | 2008A1839 | 青柳 利隆 | 光ファイバー通信領域III-N-V半導体におけるアニール時原子再配列のXAFS法による研究 | 三菱電機(株) | 産業界 | 物質科学・材料科学 | 6 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
18 | 2008A1848 | 杉村 高志 | 高反応選択性を発現する固体パラジウム触媒の創成と構造解明:構造の新しい評価方法の確立と新規触媒の開発 | 兵庫県立大学 | 大学等教育機関 | 化学 | 6 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
19 | 2008A1851 | 三宅 亜紀 | ガリウム添加酸化亜鉛薄膜中の、ガリウムの存在状態の解明 | 高知工科大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
20 | 2008A1854 | 尾崎 哲也 | 高容量ニッケル水素電池用異種元素置換α型水酸化ニッケルの局所構造解析 | (株)ジーエス・ユアサコーポレーション | 産業界 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
21 | 2008A1884 | 飯原 順次 | タングステンめっき用溶融塩浴中のタングステンイオン状態解析 | 住友電気工業(株) | 産業界 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
22 | 2008A1891 | 丸山 純 | 鋳型法により高比表面積化した非貴金属系燃料電池正極触媒としての炭素材料中の活性点構造のXAFS測定による分析 | 大阪市立工業研究所 | 国公立研究機関等 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
23 | 2008A1892 | 石原 顕光 | In situ XAFSによる固体高分子形燃料電池に用いる非白金酸素還元触媒の局所構造解析 | 横浜国立大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
24 | 2008A1896 | 前川 智弘 | ゼオライトを担体とした新規Pd触媒の官能基選択性発現メカニズム解明を目的としたゼオライト細孔内のPd分布の解析 | 岐阜薬科大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
25 | 2008A1902 | 鈴木 茂 | 水溶液中における鉄の酸化に伴う金属イオンの化学状態と局所構造の解析 | 東北大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
26 | 2008A1903 | 国谷 譲治 | XAFSによるシリコーン産業用白金錯体の構造解析検討 | 信越化学工業(株) | 産業界 | 化学 | 3 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
27 | 2008A1904 | 西村 裕介 | タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム単結晶中のFe、Rh原子位置調査(Li、Ta、Fe、Rhの価数、結晶構造) | 住友金属鉱山(株) | 産業界 | 産業利用 | 9 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
28 | 2008A1909 | 山崎 紀子 | Tiナノ粒子のXAFS分析 | 三菱重工業(株) | 産業界 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
29 | 2008A1917 | 長嶋 廉仁 | XAFSによるソーダライムガラス中のFeイオンの構造解析 | 日本板硝子(株) | 産業界 | 物質科学・材料科学 | 2.75 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
30 | 2008A1919 | 飯原 順次 | 溶融塩浴からのタングステンめっき中の電極近傍のタングステンイオン状態解析 | 住友電気工業(株) | 産業界 | 産業利用 | 9 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
31 | 2008A1921 | 玉置 純 | チタン酸バリウム系PTCサーミスタにおける希土類イオンドナーのXAFSによる局所構造解析 | 立命館大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
32 | 2008A1926 | 武田 隆史 | スピネル型酸窒化物アルミニウム蛍光体のマンガン局所構造 | (独)物質・材料研究機構 | 国公立研究機関等 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
33 | 2008A1928 | 尾嶋 正治 | 蛍光EXAFS法によるhigh-kゲート絶縁膜中Hf原子の局所構造解析(3) | 東京大学 | 大学等教育機関 | 物質科学・材料科学 | 12 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
34 | 2008A1933 | 土井 教史 | 3d遷移金属元素汚染のPt触媒周辺局所構造に及ぼす影響検討(2) | 住友金属工業(株) | 産業界 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
35 | 2008A1941 | 打越 雅仁 | 塩酸酸性溶液中のハフニウム、ジルコニウム、銅、コバルトクロロ錯体の構造 | 東北大学 | 大学等教育機関 | 化学 | 6 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
36 | 2008A1944 | 塩沢 一成 | XAFSを用いたITOとα NPD界面へ挿入されたMoO3超薄膜の構造ならびに電子状態解析 | (株)三井化学分析センター | 産業界 | 産業利用 | 5.875 | 日本 | BL14B2 | 非専有 |
37 | 2008A1814 | 野村 健二 | PEEMによる磁気ヘッド・MRAM用交換結合膜の反強磁性・強磁性磁区構造観察 | (株)富士通研究所 | 産業界 | 産業利用 | 5.875 | 日本 | BL17SU | 非専有 |
38 | 2008A1838 | 野崎 洋 | XMCD-PEEMによる着磁したNd-Fe-B磁石の粒界部の磁区構造観察 | (株)豊田中央研究所 | 産業界 | 産業利用 | 5.875 | 日本 | BL17SU | 非専有 |
39 | 2008A1759 | 野崎 洋 | 異常分散効果を利用したCu2ZnSnS4膜材料の粉末X線構造解析 | (株)豊田中央研究所 | 産業界 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
40 | 2008A1764 | 吉谷 博司 | 微小角入射X線散乱によるラビング処理したポリオレフィンフィルムの表面構造解析 | 積水化学工業(株) | 産業界 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
41 | 2008A1776 | 高岡 昌輝 | 廃棄物溶融スラグ中鉛の溶出挙動と構造因子の関係解明に関する研究 | 京都大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 2.875 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
42 | 2008A1778 | 小川 晃博 | 水熱条件下でのトバモライト生成過程のその場X線回折 | 旭化成(株) | 産業界 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
43 | 2008A1779 | 伊藤 孝憲 | プロトン伝導体のリートベルト、MEM解析によるプロトン拡散挙動の考察 | AGCセイミケミカル(株) | 産業界 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
44 | 2008A1786 | 前川 亨 | ガス漏れ警報器用センサに用いるSnO2系材料の結晶構造解析 | 新コスモス電機(株) | 産業界 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
45 | 2008A1790 | 小池 真司 | CO レーザ照射による光ファイバ融着接続部内含有物質のSPring-8放射光光源を用いた蛍光X線分析研究 | 日本電信電話(株) | 産業界 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
46 | 2008A1794 | 福島 靖憲 | 極小角X線散乱法による高強度・高弾性率繊維のナノスケール構造に関する研究 | (株)東洋紡総合研究所 | 産業界 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
47 | 2008A1795 | 宇都野 太 | X線異常散乱を用いたIn2O3-ZnO系透明電極材料の構造解析 | 出光興産(株) | 産業界 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
48 | 2008A1797 | 塩澤 大輝 | 超長寿命域における金属材料の強度信頼性評価法の確立 | 神戸大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
49 | 2008A1805 | 篠田 弘造 | Fe異常分散を利用した回折測定による液相合成FeCo合金ナノ粒子の温度依存規則/不規則構造変態の解明 | 東北大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
50 | 2008A1809 | 小林 由佳 | ホール素子への応用を指向した有機半導体の粉末X線結晶構造解析 | 早稲田大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 1 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
51 | 2008A1823 | 則竹 達夫 | 水素貯蔵材料開発のための混合系水素化物の結晶構造解析 | (株)豊田中央研究所 | 産業界 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
52 | 2008A1826 | 大橋 一俊 | 屈折コントラストイメージングによる固体高分子型燃料電池中での水分発生状況確認手法の開発 | (株)住化分析センター | 産業界 | 産業利用 | 5.875 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
53 | 2008A1827 | 池田 裕子 | 超小角X線散乱で明らかにする天然ゴムの特異性と補強効果 自然に学ぶ高強度材料設計の鍵 | 京都工芸繊維大学 | 大学等教育機関 | 物質科学・材料科学 | 3 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
54 | 2008A1829 | 高谷 光 | シックハウスガス可視化検知のための有機分子センサーの開発と構造解析 | 京都大学 | 大学等教育機関 | 化学 | 6 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
55 | 2008A1833 | 高谷 光 | 超音波誘起ゲル化能を有する遷移金属錯体の ab-initio 粉末X線構造解析 | 京都大学 | 大学等教育機関 | 化学 | 2.875 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
56 | 2008A1835 | 今吉 憲幸 | デバイシェラーカメラを用いた粉末X線回折法による医薬品錠剤の結晶多形評価 | SAI(株) | 産業界 | 産業利用 | 1 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
57 | 2008A1841 | 寺田 勝英 | 固体混合により作成した医薬品粉末共結晶のab initio結晶構造解析 | 製剤機械技術研究会 | 国公立研究機関等 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
58 | 2008A1849 | 小野寺 純一 | X線小角散乱法を用いた超薄膜微細加工レジスト材料中の密度ゆらぎの研究 | 東京応化工業(株) | 産業界 | 産業利用 | 9 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
59 | 2008A1885 | 栗村 隆之 | 溶接部近傍表面内部残留応力測定 | 三菱重工業(株) | 産業界 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
60 | 2008A1886 | 中井 善一 | 高強度アルミニウム合金における腐食疲労損傷のその場観察 | 神戸大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
61 | 2008A1887 | 佐野 雄二 | 構造材内部欠陥を起点とする疲労き裂のマイクロCTによる可視化と破壊メカニズムの検討 | (株)東芝 | 産業界 | 産業利用 | 8.875 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
62 | 2008A1894 | 杉村 高志 | 乱用薬物錠剤のままでの放射光X線回折測定による成分分析の評価実験 | 兵庫県立大学 | 大学等教育機関 | その他 | 3 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
63 | 2008A1898 | 冨永 哲雄 | 末端を官能基修飾した高機能ゴム材料の開発(3) | JSR(株) | 産業界 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
64 | 2008A1901 | 中東 重雄 | 放射光CTによるステンレス鋼SUS316Lの応力腐食割れ き裂の検出 | (財)発電設備技術検査協会 | 国公立研究機関等 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
65 | 2008A1905 | 松野 信也 | 水熱条件下でのトバモライト生成過程のその場X線回折 | 旭化成(株) | 産業界 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
66 | 2008A1911 | 草地 雄樹 | X線イメージングによるリチウムイオン二次電池合金負極の充放電に伴う電極構造のその場観察 | 日産自動車(株) | 産業界 | 産業利用 | 5.75 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
67 | 2008A1912 | 波多 聰 | CeO 添加正方晶ZrO 多結晶体における応力誘起相変態の臨界応力の CeO 添加率依存性 | 九州大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
68 | 2008A1914 | 島岡 隆行 | 埋立処分地でのカルシウムスケールによるフッ素およびホウ素の鉱物生成的取込・吸着除去メカニズムの解明 | 九州大学 | 大学等教育機関 | 環境科学 | 3 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
69 | 2008A1916 | 佐藤 和彦 | 極小角X散乱法を用いた光学用ポリエステルフィルムの散乱体構造評価 | 帝人(株) | 産業界 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
70 | 2008A1918 | 玉置 純 | チタン酸バリウム系PTCサーミスタにおける微量不純物の同定 | 立命館大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
71 | 2008A1930 | 馬渕 貴裕 | ゴムのミクロ領域における歪みの集中とその時間変化に関する研究 | 住友ゴム工業(株) | 産業界 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
72 | 2008A1931 | 久保 達也 | X線イメージングによるニッケル基合金、ステンレス鋼のSCCき裂進展挙動の可視化および合金組織依存性評価 | (株)東芝 | 産業界 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
73 | 2008A1932 | 寺田 勝英 | 放射光粉末回折法による医薬品原薬リシノプリル結晶脱水転移のin situ構造解析 | 製剤機械技術研究会 | 国公立研究機関等 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
74 | 2008A1935 | 宇都野 太 | 異常分散によるアモルファスIn2O3-ZnO系透明電極材料の構造解析 | 出光興産(株) | 産業界 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
75 | 2008A1938 | 河野 正規 | 有機 無機ハイブリッドネットワーク錯体を対象とした放射光利用粉末X線結晶構造解析の応用研究 | 東京大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
76 | 2008A1943 | 小野寺 純一 | X線小角散乱測定による低分子ポリマーを用いた化学増幅型レジスト薄膜中の酸発生剤分布の膜厚依存性の研究 | 東京応化工業(株) | 産業界 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL19B2 | 非専有 |
77 | 2008A1798 | 久米 卓志 | 放射光を用いた単色X線CT装置による乳化物の相構造解析 | 花王(株) | 産業界 | 産業利用 | 5.875 | 日本 | BL20XU | 非専有 |
78 | 2008A1812 | 淡路 直樹 | 磁気デバイス交換結合膜の磁気異方性の界面処理依存性の軟X線共鳴磁気反射率による解明 | (株)富士通研究所 | 産業界 | 産業利用 | 8.75 | 日本 | BL25SU | 非専有 |
79 | 2008A1840 | 柳内 克昭 | TMR, CPP-GMR薄膜のサブナノオーダー厚さ領域における磁性体のスピン分極・酸化状態解析 | TDK(株) | 産業界 | 産業利用 | 9 | 日本 | BL25SU | 非専有 |
80 | 2008A1811 | 伊村 宏之 | 白色LED内のEu2+で賦活された各種蛍光体のマイクロXAFS測定 | (株)三菱化学科学技術研究センター | 産業界 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL37XU | 非専有 |
81 | 2008A1771 | 片山 靖 | 皮膚角層細胞間脂質組織構造の加齢に伴う変化の解析 | 花王(株) | 産業界 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL40B2 | 非専有 |
82 | 2008A1784 | 高山 幸三 | 放射光X線回折を利用した角層細胞間脂質の構造解析に基づく医薬品・化粧品の開発 | 星薬科大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 11.875 | 日本 | BL40B2 | 非専有 |
83 | 2008A1787 | 岡 隆史 | 化粧品基剤の微細構造と角層構造に与える影響に関する研究 | (株)資生堂 | 産業界 | 産業利用 | 5.75 | 日本 | BL40B2 | 非専有 |
84 | 2008A1782 | 細谷 佳一 | X線小角散乱及びX線広角散乱による、縮毛矯正(ストレートパーマ)施術によるクセ毛の中間径フィラメント(IF)の構造変化の研究 | (株)ヌースフィット | 産業界 | 産業利用 | 4.375 | 日本 | BL40XU | 非専有 |
85 | 2008A1810 | 八巻 悟史 | 還元、加温、酸化処理による人毛の内部構造、特に配向性の変化の解析 | (株)資生堂 | 産業界 | 産業利用 | 5.5 | 日本 | BL40XU | 非専有 |
86 | 2008A1831 | 伊藤 隆司 | マイクロビームX線小角散乱法による、毛髪老化の研究 キューティクルの変化 | 花王(株) | 産業界 | 産業利用 | 5.75 | 日本 | BL40XU | 非専有 |
87 | 2008A1807 | 岩崎 望 | 宝石珊瑚骨軸における炭酸塩構造のSR-IR分析 | 高知大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL43IR | 非専有 |
88 | 2008A1846 | 西村 直之 | 人工関節用MWCNT添加超高分子量ポリエチレンの放射光IR解析 | ナカシマプロペラ(株) | 産業界 | 産業利用 | 5.875 | 日本 | BL43IR | 非専有 |
89 | 2008A1760 | 李 孝鐘 | C、A、M、R面サファイアの窒化条件による窒化物の状態と結晶学的方位関係の分析 | 東北大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
90 | 2008A1763 | 安藤 幸也 | エンジニアリングプラスチックスの残留歪解析 | (株)デンソー | 産業界 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
91 | 2008A1768 | 畳開 真之 | X線回折法による新規高性能ポリベンズオキサゾール単繊維の高応力下における結晶構造変化の測定 | 帝人(株) | 産業界 | 産業利用 | 5.875 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
92 | 2008A1781 | 小椋 厚志 | 極浅高濃度ボロンドーピングにおける深さ方向の結晶性測定 | 明治大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
93 | 2008A1783 | 岡本 泰志 | ポリアセタールの表面ナノ構造および接着性におよぼす熱処理の影響 | (株)デンソー | 産業界 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
94 | 2008A1788 | 斎藤 吉広 | 硬X線光電子分光によるInGaAsP系半導体レーザの端面状態解析 | 住友電気工業(株) | 産業界 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
95 | 2008A1799 | 篠田 弘造 | X線光電子分光による 液相合成FeCo合金微粒子の耐酸化性機構解明を目指した 表面深さ分解分析 | 東北大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
96 | 2008A1802 | 上原 康 | シリコン酸化膜・窒化膜の局所構造解析 | 三菱電機(株) | 産業界 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
97 | 2008A1803 | 濱松 浩 | 微小角入射X線回折法による共役系発光高分子の薄膜構造解析 | 住友化学(株) | 産業界 | 物質科学・材料科学 | 3 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
98 | 2008A1808 | 福田 一徳 | 放射光硬X線光電子分光による非晶質酸化物半導体の電子構造評価 | キヤノン(株) | 産業界 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
99 | 2008A1813 | 中村 雅一 | トランジスタ用有機多結晶薄膜における結晶子サイズの評価 | 千葉大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
100 | 2008A1818 | 金 成国 | 高分解能硬X線光電子分光(HX-PES)による次世代半導体プロセス用極浅砒素(As)のプラズマドーピング層の化学結合状態の評価 | (株)ユー・ジェー・ティー・ラボ | 産業界 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
101 | 2008A1819 | 三崎 雅裕 | 摩擦転写プロセスによる高効率有機EL開発を目的とした発光性高分子の結晶多形制御に関する研究 | (独)産業技術総合研究所 | 国公立研究機関等 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
102 | 2008A1821 | 吉本 則之 | 有機トランジスタの安定性向上のための有機半導体超薄膜の構造評価 | 岩手大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 5.875 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
103 | 2008A1822 | 日比野 浩樹 | SiC基板上にエピタキシャル成長したグラフェン層のX線CTR散乱を用いた構造解析 | 日本電信電話(株) | 産業界 | 物質科学・材料科学 | 6 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
104 | 2008A1836 | 畑 良文 | High-k/メタルゲート膜界面の構造の解析 | 松下電器産業(株) | 産業界 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
105 | 2008A1845 | 古賀 智之 | 親水性を制御した金属基材とポリフェニレンサルファイド(PPS)が接する界面における微小角入射X線回折測定を用いたPPSの結晶構造解析 | (株)豊田中央研究所 | 産業界 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
106 | 2008A1847 | 戸田 昭夫 | 放射光を用いたMulti-Chip Package(MCP)内Siチップの非破壊応力/反り評価 | 日本電気(株) | 産業界 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
107 | 2008A1855 | 矢代 航 | MEMSにおける異種材料間直接接合のメカニズムの解明 Arイオン照射の効果について | 東京大学 | 大学等教育機関 | 産業利用 | 2 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
108 | 2008A1900 | 表 和彦 | X線小角散乱および回折によるGaAs上InAsナノドットの構造解析 (2007B1815で採択された課題ですが、ビームライン不調により、ビームタイムがキャンセルとなりました。 したがって、ここで同じ内容で再申請します。) | (株)リガク | 産業界 | 物質科学・材料科学 | 9 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
109 | 2008A1907 | 岡本 泰志 | ポリブチレンテレフタレートの表面ナノ構造および接着性におよぼす熱処理の影響 | (株)デンソー | 産業界 | 産業利用 | 3 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
110 | 2008A1908 | 山下 正人 | 微小角入射X線散乱法によるステンレス鋼黒色皮膜の構造解析 | 兵庫県立大学 | 大学等教育機関 | 物質科学・材料科学 | 3 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
111 | 2008A1925 | 伊関 崇 | GIXS、GISAXSによるアモルファス炭素膜の構造解析 | (株)豊田中央研究所 | 産業界 | 産業利用 | 9 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
112 | 2008A1927 | 畑 良文 | High-k/メタルゲート膜界面の構造の解析 | 松下電器産業(株) | 産業界 | 産業利用 | 5.75 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
113 | 2008A1939 | 網野 直也 | タイヤの耐久性向上のための黄銅/ゴムの接着結合様式の決定 | 横浜ゴム(株) | 産業界 | 産業利用 | 6 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
114 | 2008A1940 | 塩沢 一成 | 硬X線光電子分光を用いたITOとα NPD界面へ挿入されたMoO3超薄膜の電子状態解析 | (株)三井化学分析センター | 産業界 | 産業利用 | 2.5 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
115 | 2008A1945 | 大森 廣文 | Siナノ微結晶層の構造解析 | (株)東芝 | 産業界 | 産業利用 | 5.875 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
116 | 2008A1946 | 粟野 祐二 | 次世代チャネル材料適用に向けたグラフェンの構造及び電子状態の評価 | (株)半導体先端テクノロジーズ | 産業界 | 産業利用 | 6.875 | 日本 | BL46XU | 非専有 |
117 | 2008A1791 | 魏 志強 | 硬X線光電子分光による抵抗変化酸化物メモリデバイスの局所領域での金属・酸化物界面状態解析 | 松下電器産業(株) | 産業界 | 物質科学・材料科学 | 12 | 日本 | BL47XU | 非専有 |
118 | 2008A1853 | 粟野 祐二 | 硬X線光電子分光によるカーボンナノチューブ配線低抵抗化に向けた電極構造の最適化 | (株)半導体先端テクノロジーズ | 産業界 | 産業利用 | 5.75 | 日本 | BL47XU | 非専有 |