2008年後期実施課題2008B一覧：重点産業利用課題
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S/N |
課題番号 |
実験責任者名 |
課題名 |
実施時所属 |
所属大分類 |
研究分野 |
実施シフト |
国名 |
ビームライン |
成果専有 /非専有 |
1 |
2008B1874 |
向 和彦 |
リチウム二次電池材料LixCoO2の結晶構造変化と電池の耐久性との相関に関する研究 |
(株)豊田中央研究所 |
産業界 |
産業利用 |
3 |
日本 |
BL02B2 |
非専有 |
2 |
2008B1911 |
松永 利之 |
高速相変化材料における結晶構造の乱れと高速相変化性との関係解明［一般課題可］ |
パナソニック(株) |
産業界 |
物質科学･材料科学 |
6 |
日本 |
BL02B2 |
非専有 |
3 |
2008B1914 |
脇田 崇弘 |
排ガス浄化触媒材料の電子密度解析とイオン伝導経路 |
第一稀元素化学工業(株) |
産業界 |
産業利用 |
3 |
日本 |
BL02B2 |
非専有 |
4 |
2008B1850 |
石原 顕光 |
In-situ XAFSによる固体高分子形燃料電池に用いる非白金酸素還元触媒の局所構造解析 |
横浜国立大学 |
大学等 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL14B2 |
非専有 |
5 |
2008B1853 |
松成 秀一 |
XAFSによる極端紫外線露光装置用多層膜ミラー表面の局所構造解析 |
(株)ニコン |
産業界 |
物質科学･材料科学 |
6 |
日本 |
BL14B2 |
非専有 |
6 |
2008B1862 |
小泉 直人 |
Co/SiO2触媒上でのFT合成活性種の形成過程に及ぼすキレート剤の影響: In-situ QEXAFS法による検討 |
東北大学 |
大学等 |
化学 |
9 |
日本 |
BL14B2 |
非専有 |
7 |
2008B1873 |
中村 正治 |
レアメタルを用いない次世代型クロスカップリング反応の開拓: In-situ XAFS 測定による触媒活性種の同定および構造解析 |
京都大学 |
大学等 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL14B2 |
非専有 |
8 |
2008B1881 |
池上 啓太 |
ディーゼルPM燃焼触媒の局所構造解析 |
熊本大学 |
大学等 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL14B2 |
非専有 |
9 |
2008B1896 |
伊藤 孝憲 |
XAFSによる固体酸化物型燃料電池材料の酸素拡散挙動の考察 |
AGCセイミケミカル(株) |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL14B2 |
非専有 |
10 |
2008B1901 |
森田 将史 |
ナノダイヤモンドへの常磁性イオン注入後の局所構造解析 |
大阪大学 |
大学等 |
医学応用 |
3 |
日本 |
BL14B2 |
非専有 |
11 |
2008B1909 |
岩波 睦修 |
In-situ XAFSによるNb-Ti-Ni合金系水素分離膜の劣化機構解明 |
新日本石油(株) |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL14B2 |
非専有 |
12 |
2008B1938 |
土井 教史 |
3d遷移金属元素汚染のPt触媒周辺局所構造に及ぼす影響検討（3） |
住友金属工業(株) |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL14B2 |
非専有 |
13 |
2008B1956 |
金田 清臣 |
サブナノスケールでサイズ制御したデンドリマー内包金属クラスター触媒の製品化に向けた合成法の最適化 |
大阪大学 |
大学等 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL14B2 |
非専有 |
14 |
2008B2037 |
松川 和人 |
シリコン中での遷移金属の拡散挙動と複合体中での局所構造解析 |
(株)ルネサステクノロジ |
産業界 |
産業利用 |
3 |
日本 |
BL14B2 |
非専有 |
15 |
2008B2040 |
藤川 陽子 |
砒素除去の水処理法としての鉄バクテリア法の優位性の解明 生物酸化鉄の構造が3価砒素除去に与える影響 |
京都大学 |
大学等 |
産業利用 |
10 |
日本 |
BL14B2 |
非専有 |
16 |
2008B2048 |
尾嶋 正治 |
メタルゲート/high-k薄膜の蛍光XAFS法による評価 |
東京大学 |
大学等 |
産業利用 |
9 |
日本 |
BL14B2 |
非専有 |
17 |
2008B2049 |
田中 万也 |
籠状分子構造タンパク質内で合成したPd-Cuナノ粒子の構造解析 |
JAEA |
国公立研究機関等 |
環境科学 |
6 |
日本 |
BL14B2 |
非専有 |
18 |
2008B2063 |
土井 教史 |
3d遷移金属元素汚染のPt触媒周辺局所構造に及ぼす影響検討（4） |
住友金属工業(株) |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL14B2 |
非専有 |
19 |
2008B2066 |
清水 研一 |
ディーゼル粒子状物質低温燃焼用新規アルカリ金属触媒のIn-situ QXAFS解析 |
名古屋大学 |
大学等 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL14B2 |
非専有 |
20 |
2008B2077 |
入山 恭寿 |
全固体リチウム二次電池の高性能化に向けた界面遷移相の解明 |
静岡大学 |
大学等 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL14B2 |
非専有 |
21 |
2008B2081 |
塩沢 一成 |
XAFSを用いたITOとαNPD界面へ挿入されたMoO3超薄膜の構造ならびに電子状態の詳細解析 |
(株)三井化学分析センター |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL14B2 |
非専有 |
22 |
2008B2085 |
豊田 丈紫 |
ミスフィット層状化合物熱電材料の導電性へおよぼす遷移金属酸化物の添加効果 |
石川県工業試験場 |
国公立研究機関等 |
産業利用 |
3 |
日本 |
BL14B2 |
非専有 |
23 |
2008B2100 |
江口 健一郎 |
XAFS測定による合成炭酸カルシウム粒子生成機構の解明 |
(株)白石中央研究所 |
産業界 |
産業利用 |
3 |
日本 |
BL14B2 |
非専有 |
24 |
2008B2117 |
高崎 史進 |
水溶液中のジルコニウム化合物のEXAFS構造解析 |
第一稀元素化学工業(株) |
産業界 |
産業利用 |
3 |
日本 |
BL14B2 |
非専有 |
25 |
2008B1936 |
野村 健二 |
PEEMによる磁気ヘッド･MRAM用交換結合膜の反強磁性･強磁性磁区構造観察 |
(株)富士通研究所 |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL17SU |
非専有 |
26 |
2008B1954 |
福本 恵紀 |
XMCD-PEEM法を用いたNd-Fe-B系焼結磁石の表面磁区構造観察: 着磁状態から熱消磁状態への磁区構造変化過程とDy添加による磁区構造の変化 |
(株)豊田中央研究所 |
産業界 |
物質科学･材料科学 |
6 |
日本 |
BL17SU |
非専有 |
27 |
2008B1849 |
長谷川 浩 |
放射光粉末X線回折法による宝石珊瑚骨軸の炭酸塩構造解析 |
金沢大学 |
大学等 |
産業利用 |
3 |
日本 |
BL19B2 |
非専有 |
28 |
2008B1851 |
石原 顕光 |
燃料電池用非白金電極触媒の精密構造解析 |
横浜国立大学 |
大学等 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL19B2 |
非専有 |
29 |
2008B1864 |
松野 信也 |
水熱条件下でのトバモライト生成過程のその場X線回折 |
旭化成(株) |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL19B2 |
非専有 |
30 |
2008B1867 |
石井 秀則 |
液晶配向膜上に蒸着した液晶分子の分子配向とラビング強度との相関の解明 |
日産化学工業(株) |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL19B2 |
非専有 |
31 |
2008B1871 |
高谷 光 |
ベイポクロミック有機分子センサーの開発と構造解析: 環境調和型シックハウスガスガス可視化検知システムの開発 |
京都大学 |
大学等 |
化学 |
6 |
日本 |
BL19B2 |
非専有 |
32 |
2008B1877 |
伊藤 孝憲 |
MEM解析による固体酸化物型燃料電池材料の長期アニールにおける安定性の考察 |
AGCセイミケミカル(株) |
産業界 |
産業利用 |
3 |
日本 |
BL19B2 |
非専有 |
33 |
2008B1898 |
吉谷 博司 |
微小角入射Ｘ線散乱によるポリエステルフィルムの表面構造解析 |
積水化学工業(株) |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL19B2 |
非専有 |
34 |
2008B1916 |
安田 博文 |
X線断層撮影によるリチウムイオン二次電池合金負極の充放電に伴う電極構造変化観察 |
日産自動車(株) |
産業界 |
産業利用 |
12 |
日本 |
BL19B2 |
非専有 |
35 |
2008B1918 |
小野寺 純一 |
X線反射率測定による高分子のフッ素化が酸発生剤分布に与える影響の解明 |
東京応化工業(株) |
産業界 |
産業利用 |
9 |
日本 |
BL19B2 |
非専有 |
36 |
2008B1919 |
前川 亨 |
金属酸化物ガスセンサにおける経年的な特性変化の原因究明(I) |
新コスモス電機(株) |
産業界 |
産業利用 |
3 |
日本 |
BL19B2 |
非専有 |
37 |
2008B1921 |
前川 亨 |
ガスセンサ用酸化スズ材料におけるドーパントの相互作用 |
新コスモス電機(株) |
産業界 |
産業利用 |
3 |
日本 |
BL19B2 |
非専有 |
38 |
2008B1922 |
中井 善一 |
金属材料における疲労き裂進展モード遷移条件の解明 |
神戸大学 |
大学等 |
産業利用 |
12 |
日本 |
BL19B2 |
非専有 |
39 |
2008B1929 |
菖蒲 敬久 |
酸化物分散強化型フェライト鋼の製造過程における酸化物分散粒子分布の放射光その場観察に基づく析出機構の解明 |
JAEA |
国公立研究機関等 |
産業利用 |
12 |
日本 |
BL19B2 |
非専有 |
40 |
2008B1955 |
鈴木 美樹 |
浸透性ケイ酸系表面改質剤によるコンクリート構造物のひび割れ修復性能確認 |
LINACK(株) |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL19B2 |
非専有 |
41 |
2008B1958 |
谷山 明 |
放射光を用いたX線小角散乱法による鋼中介在物･析出物の粒径分布測定 |
住友金属工業(株) |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL19B2 |
非専有 |
42 |
2008B2031 |
松野 信也 |
水熱条件下でのトバモライト生成過程のその場X線回折 |
旭化成(株) |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL19B2 |
非専有 |
43 |
2008B2053 |
野崎 洋 |
異常分散効果を利用したCu2ZnSnS4膜材料の粉末X線構造解析(II) |
(株)豊田中央研究所 |
産業界 |
産業利用 |
3 |
日本 |
BL19B2 |
非専有 |
44 |
2008B2055 |
高谷 光 |
有機結晶分子センサーによるシックハウスガス可視化検知システムの構造解析およびガス検知機構の解明 |
京都大学 |
大学等 |
化学 |
3 |
日本 |
BL19B2 |
非専有 |
45 |
2008B2060 |
伊藤 孝憲 |
強誘電メモリー用Bi層状酸化物の誘電特性とMEMによる電荷密度の考察 |
AGCセイミケミカル(株) |
産業界 |
産業利用 |
3 |
日本 |
BL19B2 |
非専有 |
46 |
2008B2078 |
中東 重雄 |
放射光CTによるステンレス鋼溶接金属内の応力腐食割れき裂の検出 |
JAPEIC |
国公立研究機関等 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL19B2 |
非専有 |
47 |
2008B2101 |
坪田 雅己 |
その場観察過程におけるアルミニウムアミドM-Al(NH2)4 (M=Li, Na, K, Mg, Ca)の構造特性評価 |
広島大学 |
大学等 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL19B2 |
非専有 |
48 |
2008B2104 |
佐野 雄二 |
アルミニウム合金疲労き裂の進展および合体挙動の放射光ＣＴによる観察 |
(株)東芝 |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL19B2 |
非専有 |
49 |
2008B1935 |
馬渕 貴裕 |
ゴムのミクロ領域における歪みの集中の可視化とその時間変化 |
住友ゴム工業(株) |
産業界 |
産業利用 |
9 |
日本 |
BL20B2 |
非専有 |
50 |
2008B1856 |
岡本 佳之 |
X線マイクロトモグラフィーによる電子基板のマイクロ接合部における疲労損傷のヘルスモニタリング |
コーセル(株) |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL20XU |
非専有 |
51 |
2008B1903 |
井上 敬文 |
極小角X線散乱法を用いた損傷毛髪の構造解析 |
(株)カネボウ化粧品 |
産業界 |
産業利用 |
3 |
日本 |
BL20XU |
非専有 |
52 |
2008B1948 |
松永 大輔 |
X線高速/高分解能イメージングのためのキャピラリコンデンサの開発 |
(株)堀場製作所 |
産業界 |
産業利用 |
9 |
日本 |
BL20XU |
非専有 |
53 |
2008B1859 |
平野 辰巳 |
TMR磁気ヘッド膜の強磁性/反強磁性界面におけるMn磁気構造 |
(株)日立製作所 |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL25SU |
非専有 |
54 |
2008B1923 |
淡路 直樹 |
磁気デバイス反強磁性/強磁性交換結合膜における交換結合バイアスの軟Ｘ線共鳴磁気反射率による起源解明 |
(株)富士通研究所 |
産業界 |
産業利用 |
9 |
日本 |
BL25SU |
非専有 |
55 |
2008B1928 |
有岡 孝司 |
白色X線マイクロビームと二次元検出器を用いたステンレス鋼の結晶粒界歪み分布測定 |
(株)原子力安全システム研究所 |
産業界 |
物質科学･材料科学 |
15 |
日本 |
BL28B2 |
非専有 |
56 |
2008B1902 |
岡本 薫 |
マイクロXAFSによる自動車用リチウムイオン電池正極材の挙動・劣化解析 |
(株)三菱化学科学技術研究センター |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL37XU |
非専有 |
57 |
2008B1924 |
青柳 利隆 |
光ファイバー通信用(Ga,In)(N,As)系半導体におけるアニール効果のXAFS法による研究
|
三菱電機(株) |
産業界 |
物質科学･材料科学 |
6 |
日本 |
BL37XU |
非専有 |
58 |
2008B1855 |
高山 幸三 |
角層細胞間脂質の動的構造変化に基づく医薬品･化粧品の開発研究 |
星薬科大学 |
大学等 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL40B2 |
非専有 |
59 |
2008B1860 |
吉田 友和 |
角層細胞間脂質組織構造の加齢に伴う変化の解析 |
花王(株) |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL40B2 |
非専有 |
60 |
2008B1878 |
桜井 孝至 |
微小角入射Ｘ線散乱法によるポリプロピレンの階層構造評価 |
住友化学(株) |
産業界 |
産業利用 |
3 |
日本 |
BL40B2 |
非専有 |
61 |
2008B1884 |
角谷 和宣 |
SAXS-WAXD同時測定による炭素繊維の微細構造と力学物性に関する研究［一般課題可］ |
三菱レイヨン(株) |
産業界 |
物質科学･材料科学 |
3 |
日本 |
BL40B2 |
非専有 |
62 |
2008B1895 |
坂 貞徳 |
三次元培養ヒト皮膚モデルを用いた経皮吸収試験 |
日本メナード化粧品(株) |
産業界 |
産業利用 |
3 |
日本 |
BL40B2 |
非専有 |
63 |
2008B1945 |
國澤 直美 |
気相下における保湿剤塗布がヒト角層細胞間脂質の構造変化に及ぼす影響の検討「一般課題可」 |
(株)資生堂 |
産業界 |
産業利用 |
3 |
日本 |
BL40B2 |
非専有 |
64 |
2008B1858 |
安 鋼 |
Ｘ線を用いたパーマ処理毛髪中におけるコルテックスの構造解析及び毛髪補修効果の検討 |
コタ(株) |
産業界 |
産業利用 |
3 |
日本 |
BL40XU |
非専有 |
65 |
2008B1872 |
細谷 佳一 |
X線小角散乱及びX線広角散乱による、縮毛矯正(ストレートパーマ)施術によるクセ毛の中間径フィラメント(IF)の構造変化の研究 (2) |
(株)ヌースフィット |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL40XU |
非専有 |
66 |
2008B1907 |
梶浦 嘉夫 |
マイクロビームX線小角散乱法による毛髪老化ケア技術の作用メカニズム解析 |
花王(株) |
産業界 |
産業利用 |
3 |
日本 |
BL40XU |
非専有 |
67 |
2008B1932 |
池田 裕子 |
シンクロトロンＸ線と中性子から明らかにする”加硫の巧み”不均一網目構造が及ぼす加硫ゴムのダイナミクス
|
京都工芸繊維大学 |
大学等 |
物質科学･材料科学 |
6 |
日本 |
BL40XU |
非専有 |
68 |
2008B1848 |
岩崎 望 |
宝石珊瑚骨軸における炭酸塩構造のSR-IR分析 |
高知大学 |
大学等 |
産業利用 |
3 |
日本 |
BL43IR |
非専有 |
69 |
2008B1854 |
松成 秀一 |
GIXDによる極端紫外線露光装置用多層膜ミラー表面の局所構造解析 |
(株)ニコン |
産業界 |
物質科学･材料科学 |
6 |
日本 |
BL46XU |
非専有 |
70 |
2008B1875 |
表 和彦 |
X線散乱法による半導体ディバイスパターン形状計測法とそれに基づいた側壁標準試料の開発 |
(株)リガク |
産業界 |
産業利用 |
9 |
日本 |
BL46XU |
非専有 |
71 |
2008B1893 |
安藤 幸也 |
エンジニアリングプラスチックスの残留歪解析 |
(株)デンソー |
産業界 |
産業利用 |
9 |
日本 |
BL46XU |
非専有 |
72 |
2008B1917 |
小椋 厚志 |
高い電荷保持特性を有するH-less SiN膜の深さ方向組成分析 |
明治大学 |
大学等 |
産業利用 |
15 |
日本 |
BL46XU |
非専有 |
73 |
2008B1920 |
前川 亨 |
金属酸化物ガスセンサにおける経年的な特性変化の原因究明(II) |
新コスモス電機(株) |
産業界 |
産業利用 |
3 |
日本 |
BL46XU |
非専有 |
74 |
2008B1925 |
柳内 克昭 |
硬X線光電子分光法を利用したトンネル磁気抵抗効果膜のサブナノオーダー領域におけるバリア層の化学状態分析［一般課題可］ |
TDK(株) |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL46XU |
非専有 |
75 |
2008B1926 |
石川 史太郎 |
III-N-V 半導体におけるアニール効果の放射光を用いた硬Ｘ線光電子分光法による研究 |
大阪大学 |
大学等 |
物質科学･材料科学 |
6 |
日本 |
BL46XU |
非専有 |
76 |
2008B1930 |
酒井 隆宏 |
微小角入射X線回折を用いた有機薄膜光学ローパスフィルター(OLPF)の自己組織化構造の解析 |
三菱レイヨン(株) |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL46XU |
非専有 |
77 |
2008B1931 |
畑 良文 |
High-k/メタルゲート膜界面の構造の解析 |
パナソニック(株) |
産業界 |
産業利用 |
12 |
日本 |
BL46XU |
非専有 |
78 |
2008B1947 |
加藤 拓司 |
有機超薄膜の構造解析 |
(株)リコー |
産業界 |
産業利用 |
9 |
日本 |
BL46XU |
非専有 |
79 |
2008B1949 |
日比野 浩樹 |
絶縁膜/グラフェン/SiC積層構造のX線CTR散乱を用いた構造解析 |
日本電信電話(株) |
産業界 |
物質科学･材料科学 |
6 |
日本 |
BL46XU |
非専有 |
80 |
2008B2030 |
坂井田 喜久 |
放射光X線を含む３放射線を用いた浸炭鋼のハイブリッド残留応力測定法の開発 |
静岡大学 |
大学等 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL46XU |
非専有 |
81 |
2008B2042 |
京野 孝史 |
硬X線光電子分光による無極性窒化ガリウム/電極界面の解析 |
住友電気工業(株) |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL46XU |
非専有 |
82 |
2008B2057 |
岡本 泰志 |
ポリフェニレンスルフィドの表面ナノ構造および接着性におよぼす熱処理・表面処理の影響 |
(株)デンソー |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL46XU |
非専有 |
83 |
2008B2067 |
塩沢 一成 |
硬X線光電子分光を用いたITOとαNPD間にMoO3超薄膜を挿入することによるαNPD, MoO3界面の電子状態詳細解析 |
(株)三井化学分析センター |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL46XU |
非専有 |
84 |
2008B2071 |
畑 良文 |
High-k/メタルゲート膜界面の構造の解析 |
パナソニック(株) |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL46XU |
非専有 |
85 |
2008B2073 |
小椋 厚志 |
高い電荷保持特性を有するH-less SiN膜の電荷捕獲機構の解明 |
明治大学 |
大学等 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL46XU |
非専有 |
86 |
2008B2086 |
仲野 純章 |
半導体デバイスのはんだ接合部周辺に対する残留応力分布評価 |
パナソニック(株) |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL46XU |
非専有 |
87 |
2008B2090 |
米澤 利夫 |
軽水炉用オーステナイト系ステンレス鋼及びNi基合金における高温高圧水中応力負荷下で生成した酸化皮膜積層構造 |
東北大学 |
大学等 |
産業利用 |
5 |
日本 |
BL46XU |
非専有 |
88 |
2008B2112 |
上村 重明 |
Bi系酸化物超電導線材の焼結過程の二次元検出器を用いたIn-situ X線回折法の検討 |
住友電気工業(株) |
産業界 |
産業利用 |
3 |
日本 |
BL46XU |
非専有 |
89 |
2008B1852 |
吉木 昌彦 |
全反射硬X線光電子分光法による半導体界面層の解析 |
(株)東芝 |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL47XU |
非専有 |
90 |
2008B1904 |
羽鳥 公一 |
高分解能X線CTによるブレーキ摩擦材の空隙タイプ別の数値化解析［一般課題可］ |
(株)曙ブレーキ中央技術研究所 |
産業界 |
産業利用 |
6 |
日本 |
BL47XU |
非専有 |
91 |
2008B1934 |
渋谷 忠夫 |
硬X線光電子分光法による有機EL素子界面の研究 |
出光興産(株) |
産業界 |
物質科学･材料科学 |
9 |
日本 |
BL47XU |
非専有 |