2010年後期実施課題2010B一覧：一般研究課題（その10）
| S/N | 1～50 | 51～100 | 101～150 | 151～200 | 201～250 | 251～300 | 301～350 | 351～400 | 401～450 | 451～461 |
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| S/N | 課題番号 | 実験課題名 | 実験責任者 | 実施時所属 | 国名 | 所属分類 | 研究分野 | 実施 シフト |
ビームライン | 専有 /非専有 |
| 451 | 2010B1915 | AlGaN/GaNヘテロ構造のバンド曲がり分析 | 高橋 直子 | (株)豊田中央研究所 | 日本 | 産業界 | 産業利用 | 6 | BL46XU | 専有 |
| 452 | 2010B1916 | 理想電極界面を用いたリチウムイオン二次電池電極の表面構造変化検出による反応機構解明 | 阿部 真知子 | トヨタ自動車(株) | 日本 | 産業界 | 物質科学･材料科学 | 6 | BL46XU | 専有 |
| 453 | 2010B1917 | 硬X線光電子分光法を用いた酸化ケイ素膜の状態分析 | 伊藤 博人 | コニカミノルタテクノロジーセンター(株) | 日本 | 産業界 | 産業利用 | 1 | BL46XU | 専有 |
| 454 | 2010B1918 | 非晶質薄膜の広角散乱 | 松井 高史 | 富士フイルム(株) | 日本 | 産業界 | 産業利用 | 6 | BL46XU | 専有 |
| 455 | 2010B1425 | 角度分解型広角対物レンズを用いた深さ分析 | 池永 英司 | (財)高輝度光科学研究センター | 日本 | 国公立研究機関等 | 物質科学･材料科学 | 3 | BL47XU | 非専有 |
| 456 | 2010B1431 | 硬X線角度分解光電子分光によるbi-layer high-kゲートスタック構造の深さ方向プロファイリング | 豊田 智史 | 東京大学 | 日本 | 大学等教育機関 | 物質科学･材料科学 | 6 | BL47XU | 非専有 |
| 457 | 2010B1531 | 「はやぶさ」による小惑星リターンサンプルの初期分析：サンプルの３次元構造と初期分析フローにおける下流破壊分析への応用 | 土’山 明 | 大阪大学 | 日本 | 大学等教育機関 | 地球･惑星科学 | 15 | BL47XU | 非専有 |
| 458 | 2010B1648 | 硬X線光電子分光法による半導体材料の解析 | 佐藤 暢高 | 東芝ナノアナリシス(株) | 日本 | 産業界 | 産業利用 | 6 | BL47XU | 専有 |
| 459 | 2010B1649 | 硬X線光電子分光法による薄膜材料の内部･界面の状態解析 | 蜂谷 正樹 | 富士フイルム(株) | 日本 | 産業界 | 産業利用 | 6 | BL47XU | 専有 |
| 460 | 2010B1656 | 希土類化合物の硬X線光電子分光 | 木本 博行 | トヨタ自動車(株) | 日本 | 産業界 | 物質科学･材料科学 | 9 | BL47XU | 専有 |
| 461 | 2010B1659 | 様々な透明導電性酸化物のHAXPES分析 | 安居 麻美 | (株)東レリサーチセンター | 日本 | 産業界 | 産業利用 | 6 | BL47XU | 専有 |