テーマN7 蛍光X線分析法による微量元素マッピング (BL37XU)
X線マイクロビームを用いるナノメーターレベルでの深さ方向分析 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出228KB
辻 幸一       大阪市立大学大学院 工学研究科
マイクロビーム蛍光X 線分析によるGaAsBiのキャラクタリゼーション 酸素分子の運動エネルギー励起によるSi(111)表面のナノスケール選択酸化166KB
平井 敦彦     株式会社 エックスレイプレシジョン
自動車関連粒子に含まれる元素の化学種形態分析に関するマイクロXAFS研究 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出153KB
松尾 基之      東京大学大学院 総合文化研究科
蛍光X線ホログラフィーによるSiGeバルク結晶の構造評価 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出239KB
林 好一        東北大学 金属材料研究所
単原子層制御された磁性薄膜の蛍光X線ホログラフィー 酸素分子の運動エネルギー励起によるSi(111)表面のナノスケール選択酸化426KB
嶋 敏之       東北大学 金属材料研究所
異常散乱現象を利用した蛍光X線ホログラフィー技術の開発 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出329KB
松原 英一郎    東北大学 金属材料研究所
貝の歯を構成する磁鉄鉱とその関連化合物のマイクロXAFS分析 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出330KB
沼子 千弥     徳島大学 総合科学部
X線分光顕微鏡による生体組織内金属元素の局在の解析 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出264KB
高川 清        富山医科薬科大学 医学部
 
テーマN8 核共鳴散乱法による局所構造と電子状態の研究 (BL11XU)
放射光核共鳴前方散乱によるFe量子ワイヤーの内部磁場についての研究 酸素分子の運動エネルギー励起によるSi(111)表面のナノスケール選択酸化253KB
瀬戸 誠      京都大学 原子炉実験所
テーマN9 電気化学における固/液界面構造解析 (BL14XU)
高圧下でのXAFSによるZrO2ナノ粒子の圧力誘起相転移の観察 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出161KB
大高 理      大阪大学大学院 理学研究科
表面X線散乱法による単結晶金属電極/溶液界面のその場構造追跡
           -Au(111)及びAu(100)単結晶電極極表面の酸化膜形成/還元反応の追跡
ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出216KB
魚崎 浩平     北海道大学大学院 理学研究科
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