5 基盤技術開発
5.1 ナノ構造イメージング等
蛍光X線ホログラフィーによる鉄合金中微量銅周辺の局所構造解析 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,248KB
松原 英一郎    東北大学 金属材料研究所
5.2 分子操作、原子励起、イオン化等
ピックアップ法を用いたクラスター付着分子のイオン化技術の開発 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,607KB
本間 健二      姫路工業大学 理学部
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