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BL16B2 概要

問い合わせ番号

INS-0000000454

ビームラインの概要

  本ビームラインは隣接するBL16XUとともに13社の共同で産業利用の目的で建設され、2本のビームラインは一体のハッチ構造をしております。BMビームライン(BL16B2)は、広いエネルギー範囲でのX線吸収分光(XAFS)およびX線トポグラフィーなどの精密X線光学実験を行うことを目的としています。単色器は可変傾斜型であり、反射面を切り替えて、産業界で特に重要なチタンの吸収端エネルギーをカバーした4.5keV~113keVのX線が利用できます。高周波除去及び集光用にX線円筒ミラーを配置しており、実験に応じてミラーをビームパスからはずすことができます。標準的な使用においては、4.5keV~13.5keVでのエネルギー領域に対して高次(3次)光除去ができます。ミラーの挿入に伴うビームパスの変化に対応し、傾斜架台によってビームパスを上下するようになっています。

研究分野

  大強度で広いエネルギー範囲のX線を利用して、機能材料などの評価、開発を行っていきます。 2005年度に設置したガス供給装置を用いて任意のガス雰囲気下でのin-situ 実験も可能です。 XAFS装置では薄膜、微量、重元素に着目した微視的構造解析を行います。 トポグラフィー装置では半導体結晶材料の高精度解析などを行います。

キーワード

  • 研究分野
    XAFS、トポグラフィー、反射率、蛍光分析
  • 装置
    精密ゴニオメーター、ミラー、クライオスタット、SSD(Ge)、7素子SDD、イオンチェンバー、シンチレーションディテクター、ライトル検出器、イメージングプレート、転換電子収量検出器、CCDカメラ、ガス供給装置

光源と光学系

  • サンプル位置でのX線

    エネルギー範囲 4.5 ∼ 113 keV
    エネルギー分解能 ΔE/E ∼ 10-4
    光子数 ∼ 1010ph/s
    ビームサイズ ~ 0.1(H) × 0.1(V) (with mirror)
    ~ 40(H) × 2(V) (without mirror)

    ビームラインのレイアウト

実験ステーション

  実験ハッチ内には、大型定盤が設置され、XAFS、X線トポグラフィーを含む精密X線光学実験、および反射率測定といった多種類の実験が可能な多機能実験装置を配備しています。精密ゴニオメーター系とXAFS光学系を同一定盤上に装備し、実験に応じて架台の上下および水平移動が可能であす。検出器はNaI検出器、SSD、イオンチェンバー(IC)、多素子SDD、CCDカメラなどを備え、広いエネルギー範囲に対応できるように8系統のガス配管を装備しています。また、ガス除害装置が設置されております。ビームパスはXAFSおよびX線トポグラフィー実験で、同一にも、ずらすことも可能であり、必要に応じてヘリウムを導入できます。反射率測定用ステージなど各種の実験に対応できる試料ステージ/ホルダーを備えており、XAFS測定用として試料冷却装置も標準で装備されています。機器制御はLabview上での制御ソフトで行い、XAFSおよびX線強度測定(ロッキングカーブの測定など)が可能です。

文献検索 

BL16B2 PUBLICATION SEARCH

 

連絡先

工藤喜弘
ソニー(株)マテリアル研究所 材料解析センター
〒243-0021 厚木市岡田4-16-1
Phone : 046-226-2527
FAX : 046-226-2178
e-mail : m1.png

Website

http://sunbeam.spring8.or.jp/

最終変更日 2016-11-30 15:27
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