Hard X-ray photoelectron spectroscopy
問い合わせ番号
SOL-0000000971
ビームライン
BL29XU（理研 物理科学I）
学術利用キーワード
| A. 試料 | 無機材料 |
|---|---|
| B. 試料詳細 | 金属・合金, 半導体, 超伝導体, 磁性体, 誘電体・強誘電体 |
| C. 手法 | 光電離、二次電子 |
| D. 手法の詳細 | 光電子分光 |
| E. 付加的測定条件 | マイクロビーム(>10μｍ) |
| F. エネルギー領域 | Ｘ線（4～40 keV) |
| G. 目的・欲しい情報 | 化学状態, 結合状態, 電子状態、バンド構造 |
産業利用キーワード
| 階層1 | その他 |
|---|---|
| 階層2 | |
| 階層3 | |
| 階層4 | 電子状態, 価数, 化学状態 |
| 階層5 | XPS |
分類
A80.12 半導体・電子材料, A80.14 磁性材料, A80.20 金属・構造材料, A80.30 無機材料, M50.10 光電子分光
利用事例本文
Hard x-ray photoelectron spectroscopy is a unique technique to study electronic structures and chemical states in surface insensitive manner.
The following figure shows the Au 4f and Fermi-edge spectra of a gold plate sample with no surface treatment. The total energy resolution was estimated to be 240 meV from the Fermi edge broadening.
Fig. Au 4f and Fermi-edge spectra. Measurement was performed at an incident x-ray energy of 5.95 kev
and an electron analyzer pass energy of 200 eV.
[ K. Kobayashi, M. Yabashi, Y. Takata, T. Tokushima, S. Shin, K. Tamasaku, D. Miwa, T. Ishikawa, H. Nohira. T. Hattori, Y. Sugita, O. Nakatsuka, A. Sakai and S. Zaima, Applied Physics Letters 83, 1005-1007 (2003), Fig. 1,
©2003 American Institute of Physics ]
画像ファイルの出典
原著論文/解説記事
誌名
K. Kobayashi, M. Yabashi, Y. Takata, T. Tokushima, S. Shin, K. Tamasaku, D. Miwa, T. Ishikawa, H. Nohira, T. Hattori, Y. Sugita, O. Nakatsuka, A. Sakai, and S. Zaima, Appl. Phys. Lett. 83, 1005-1007 (2003)
図番号
1
測定手法
Hard x-ray photoelectron spectroscopy with high energy resolution and high throughput is performed by using a channel-cut x-ray monochromator, x-ray focusing mirrors, and analyzer for high energy electrons.
Fig. Schematic view of experimental setup for hard x-ray photoelectron spectroscopy.
[ Y. Takata, K. Tamasaku, Y. Nishino, D. Miwa, M. Yabashi, E. Ikenaga, K. Horiba, M. Arita, K. Arita, H. Namatame, H. Nohira, T. Hattori, S. Södergren, B. Wannberg, M. Taniguchi, S. Shin, T. Ishikawa and K. Kobayashi, Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena 144-147, 1063-1065 (2005), Fig. 1,
©2005 Elsevier Science Publisher ]
画像ファイルの出典
原著論文/解説記事
誌名
Y. Takata, K. Tamasaku, Y. Nishino, D. Miwa, M. Yabashi, E. Ikenaga, K. Horiba, M. Arita, K. Shimada, H. Namatame, H. Nohira, T. Hattori, S. Södergren, B. Wannberg, M. Taniguchi, S. Shin, T. Ishikawa, and K. Kobayashi, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 144–147, 1063-1065 (2005)
図番号
1
測定準備に必要なおおよその時間
24 時間
測定装置
| 装置名 | 目的 | 性能 |
|---|---|---|
| electron analyzer for hard x-ray photoelectron spectroscopy |
参考文献
| 文献名 |
|---|
| M. Taguchi, A. Chainani, N. Kamakura, K. Horiba, Y. Takata, M. Yabashi, K. Tamasaku, Y. Nishino, D. Miwa, T. Ishikawa, S. Shin, E. Ikenaga, T. Yokoya, K. Kobayashi, T. Mochiku, K. Hirata, and K. Motoya, Phys. Rev. B 71, 155102 (2005) |
| H. Sato, K. Shimada, M. Arita, K. Hiraoka, K. Kojima, Y. Takeda, K. Yoshikawa, M. Sawada, M. Nakatake, H. Namatame, M. Taniguchi, Y. Takata, E. Ikenaga, S. Shin, K. Kobayashi, K. Tamasaku, Y. Nishino, D. Miwa, M. Yabashi, and T. Ishikawa, Phys. Rev. Lett. 93, 246404 (2004) |
| K. Horiba, M. Taguchi, A. Chainani, Y. Takata, E. Ikenaga, D. Miwa, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Awaji, A. Takeuchi, M. Yabashi, H. Namatame, M. Taniguchi, H. Kumigashira, M. Oshima, M. Lippmaa, M. Kawasaki, H. Koinuma, K. Kobayashi, T. Ishikawa, and S. Shin, Phys. Rev. Lett. 93, 236401 (2004) |
| J. J. Kim, H. Makino, K. Kobayashi, Y. Takata, T. Yamamoto, T. Hanada, M. W. Cho, E. Ikenaga, M. Yabashi, D. Miwa, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, S. Shin, and T. Yao, Phys. Rev. B 70, 161315(R) (2004) |
| K. Kobayashi, Y. Takata, T. Yamamoto, J.J. Kim, H. Makino, K. Tamasaku, M. Yabashi, D. Miwa, T. Ishikawa, S. Shin and T. Yao, Jpn. J. Appl. Phys. 43, L1029-L1031 (2004) |
| Y. Takata, K. Tamasaku, T. Tokushima, D. Miwa, S. Shin, T. Ishikawa, M. Yabashi, K. Kobayashi, J. J. Kim and T. Yao, T. Yamamoto, M. Arita, H. Namatame, and M. Taniguchi, Appl. Phys. Lett. 84, 4310-4312 (2004) |
| A. Chainani, T. Yokoya, Y. Takata, K. Tamasaku, M. Taguchi, T. Shimojima, N. Kamakura, K. Horiba, S. Tsuda, S. Shin, D. Miwa, Y. Nishino, T. Ishikawa, M. Yabashi, K. Kobayashi, H. Namatame, M. Taniguchi, K. Takada, T. Sasaki, H. Sakurai, and E. Takayama-Muromachi, Phys. Rev. B 69, 180508(R) (2004) |
| K. Kobayashi, M. Yabashi, Y. Takata, T. Tokushima, S. Shin, K. Tamasaku, D. Miwa, T. Ishikawa, H. Nohira, T. Hattori, Y. Sugita, O. Nakatsuka, A. Sakai, and S. Zaima, Appl. Phys. Lett. 83, 1005-1007 (2003) |
関連する手法
アンケート
ユーザー持ち込み装置を使った
測定の難易度
熟練が必要
データ解析の難易度
中程度
図に示した全てのデータを取るのにかかったシフト数
2～3シフト