大型放射光施設 SPring-8

問い合わせ番号

SOL-0000001537

ビームライン

BL29XU（理研 物理科学I）

学術利用キーワード

A. 試料	計測法、装置に関する研究
B. 試料詳細	半導体
C. 手法	Ｘ線弾性散乱
D. 手法の詳細	反射、屈折
E. 付加的測定条件	マイクロビーム(<1μｍ)
F. エネルギー領域	Ｘ線（4～40 keV)
G. 目的・欲しい情報	局所構造

産業利用キーワード

階層1	その他
階層2
階層3
階層4	局所構造
階層5	反射率

分類

A30.20 表面界面物性

利用事例本文

超精密全反射ミラーの開発により、X線ナノ集光光学の技術革新を進めています。Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining)とEEM (Elastic Emission Machining)という二つの技術を組み合わせ、原子レベルの形状精度を持つミラーが加工されます。
図に示すのは、二枚の集光ミラーをKirkpatrick-Baez配置で用い行われた、二次元集光の結果です。集光サイズ36 nm 48 nmの回折限界集光が達成されました。

図　ナノ集光ビームの強度プロファイル

[ H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, H. Hara, K. Yamamoto, Y. Sano, M. Shibahara, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa and K. Yamauchi, Japanese Journal of Applied Physics 44, L539-L542 (2005), Fig. 3,
©2005 日本応用物理学会 ]

画像ファイルの出典

原著論文/解説記事

誌名

H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, H. Hara, K. Yamamura, Y. Sano, M. Shibahara, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, and K. Yamauchi, Jpn. J. Appl. Phys. 44, L539-L542 (2005)

図番号

3

測定手法

二枚の集光ミラーをKirkpatrick-Baez配置で用いX線ビームを二次元集光します。

図　Kirkpatrick-Baezミラー系によるＸ線ビームの二次元集光

[ H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, H. Hara, K. Yamamura, Y. Sano, M. Shibahara, K. Endo, Y. Mori and T. Noshino, Japanese Journal of Applied Physics 44, L539-L542 (2005), Fig. 1,
©2005 日本応用物理学会 ]

画像ファイルの出典

原著論文/解説記事

誌名

H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, H. Hara, K. Yamamura, Y. Sano, M. Shibahara, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, and K. Yamauchi, Jpn. J. Appl. Phys. 44, L539-L542 (2005)

図番号

1

測定準備に必要なおおよその時間

24 時間

測定装置

装置名	目的	性能
Kirkpatrick-Baez型Ｘ線集光装置

参考文献

文献名
S. Matsuyama, H. Mimura, H. Yumoto, K. Yamamura, Y. Sano, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, M. Yabashi, and K. Yamauchi, Rev. Sci. Instrum. 76, 083114 (2005)
H. Yumoto, H. Mimura, S. Matsuyama, H. Hara, K. Yamamura, Y. Sano, K. Ueno, K. Endo, Y. Mori, M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, and K. Yamauchi, Rev. Sci. Instrum. 76, 063708 (2005)
H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, H. Hara, K. Yamamura, Y. Sano, M. Shibahara, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, and K. Yamauchi, Jpn. J. Appl. Phys. 44, L539-L542 (2005)
H. Mimura, H. Yumoto, S. Matsuyama, K. Yamamura, Y. Sano, K. Ueno, K. Endo, Y. Mori, M. Yabashi, K. Tamasaku, Y. Nishino, T. Ishikawa, and K. Yamauchi, Rev. Sci. Instrum. 76, 045102 (2005)
H. Mimura, K. Yamauchi, K. Yamamura, A. Kubota, S. Matsuyama, Y. Sano, K. Ueno, K. Endo, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, and Y. Mori, J. Synchrotron Rad. 11, 343-346 (2004)
K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, and Y. Mori, Jpn. J. Appl. Phys. 42, 7129-7134 (2003)
K. Yamamura, K. Yamauchi, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, and Y. Mori, Rev. Sci. Instrum. 74, 4549-4553 (2003)
K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K. Ueno, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, and Y. Mori, Rev. Sci. Instrum. 74, 2894-2898 (2003)
K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, and Y. Mori, J. Synchrotron Rad. 9, 313-316 (2002)
A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, Y. Mori, K. Yamauchi, K. Yamamura, and A. Saito, J. Synchrotron Rad. 9, 223-228 (2002)

関連する手法

アンケート

ユーザー持ち込み装置を使った

測定の難易度

熟練が必要

データ解析の難易度

中程度

図に示した全てのデータを取るのにかかったシフト数

4～9シフト