全反射ミラーを用いた高エネルギーX線マイクロビーム
Inquiry number
SOL-0000001572
Beamline
BL37XU (Trace Element Analysis)
Scientific keywords
| A. Sample category | research on method, instrumentation |
|---|---|
| B. Sample category (detail) | |
| C. Technique | fluorescent X-rays |
| D. Technique (detail) | XAFS, trace-element |
| E. Particular condition | microbeam (1-10 µm) |
| F. Photon energy | X-ray (4-40 keV), X-ray (> 40 keV) |
| G. Target information | chemical state, local structure, elemental composition, trace element |
Industrial keywords
| level 1---Application area | others |
|---|---|
| level 2---Target | |
| level 3---Target (detail) | |
| level 4---Obtainable information | element distribution |
| level 5---Technique |
Classification
Body text
この事例は，高エネルギーX線領域で，全反射ミラーを用いて，マイクロビームを得るものです。
図に示すように，X線エネルギー37keVという高エネルギー領域において，1ミクロン程度のマイクロビームが得られるようになりました。
図 X線エネルギー37keVでのK-Bミラーによるビームプロファイル
Source of the figure
Private communication/others
Description
Technique
この方法は，2枚の全反射ミラーを組み合わせて，縦方向，横方向それぞれにX線を集光するものです（K-Bミラー）。これを用いると，20-100keV程度までのX線を1ミクロン前後に集光することができます。これまでは，良質な高エネルギーX線が得られなかったことと，本気でこのエネルギー領域のミラーを作ろうとした人がいなかったため，現在では我々のグループのみによる技術です。
Source of the figure
No figure
Required time for experimental setup
6 hour(s)
Instruments
| Instrument | Purpose | Performance |
|---|---|---|
| 高エネルギーX線マイクロビーム調整装置 | K-Bミラーを用いたマイクロビーム生成 | ビームサイズ1ミクロン前後 |
References
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Questionnaire
The measurement was possible only in SPring-8. Impossible or very difficult in other facilities.
Similar experiments account for more than 30% of the beamline's subject.
This solution is application of a new instrument installed in the past two years.
Ease of measurement
With a great skill
Ease of analysis
Easy
How many shifts were needed for taking whole data in the figure?
Two-three shifts