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2008年後期実施課題2008B一覧:一般研究課題(その9)

S/N 1~50 51~100 101~150 151~200 201~250 251~300 301~350 351~400 401~427

問い合わせ先:利用業務部 TEL 0791-58-0961 E-mail: sp8jasri@spring8.or.jp

成果専有課題は「公開用課題名」を表示

S/N
課題番号
実験責任者名
課題名
実施時所属
所属大分類
研究分野
実施シフト
国名
ビームライン
成果専有
/非専有
401
2008B1418
小西 隆士
熱履歴を持ったメルトからの高分子結晶化におけるナノオーダーでの秩序形成について
京都大学
大学等
物質科学・材料科学
6
日本
BL45XU
非専有
402
2008B1448
岩本 裕之
流動配向法を応用した蛋白分子の小角散乱による構造解析の試み
JASRI
国公立研究機関等
生命科学
6
日本
BL45XU
非専有
403
2008B1451
片岡 幹雄
時分割X線溶液散乱による折り畳み初期構造形成に関与する非局所的相互作用の同定
奈良先端科学技術大学院大学
大学等
生命科学
6
日本
BL45XU
非専有
404
2008B1632
奥山 博司
格子間隔変化に対する心筋収縮中の格子の乱れ
川崎医科大学
大学等
生命科学
3
日本
BL45XU
非専有
405
2008B1644
木村 雅子
弛緩時の骨格筋・心筋筋節内のミオシン頭部の分布は太いフィラメントにかかるひずみとアクチンとの相互作用に強く影響される 
東京慈恵会医科大学
大学等
生命科学
6
日本
BL45XU
非専有
406
2008B1707
久保 純
放射光X線回折法によるSV40C部品の残留応力評価
日産自動車(株)
産業界
産業利用
2
日本
BL46XU
専有
407
2008B1710
後藤 健治
透明電極材料のHX-PES測定
出光興産(株)
産業界
物質科学・材料科学
3
日本
BL46XU
専有
408
2008B1713
中井 宗紀
磁性材料のFeサイト置換
富士写真フイルム(株)
産業界
産業利用
5.75
日本
BL46XU
専有
409
2008B1715
中井 宗紀
圧電材料の高層反射逆格子マップ
富士写真フイルム(株)
産業界
産業利用
3
日本
BL46XU
専有
410
2008B1716
中井 宗紀
非晶質薄膜の広角散乱による動径分布解析
富士写真フイルム(株)
産業界
産業利用
3
日本
BL46XU
専有
411
2008B1722
岡田 一幸
薄膜の斜入射X線回折及びX線反射率 
(株)東レリサーチセンター
産業界
産業利用
1
日本
BL46XU
専有
412
2008B2130
佐藤 暢高
微小角入射X線小角散乱法GI-SAXS(Grazing Incidence Small-Angle X-ray Scattering)によるSi酸化膜の構造解析
東芝ナノアナリシス(株)
産業界
産業利用
1
日本
BL46XU
専有
413
2008B2132
笹川 知由
実用高分子成型材料の極表面結晶構造解析による成型・製膜条件と実用表面物性の相関の解明
(株)三井化学分析センター
産業界
物質科学・材料科学
3
日本
BL46XU
専有
414
2008B2133
上村 重明
X線回折実験
住友電気工業(株)
産業界
産業利用
9
日本
BL46XU
専有
415
2008B1261
水谷 隆太
ヒト大脳皮質の神経回路の三次元構造解析
東海大学
大学等
生命科学
6
日本
BL47XU
非専有
416
2008B1332
岸本 浩通
結像型高分解能X線CT法によるナノ粒子充填ゴムの延伸下におけるクラックネットワーク形成過程の観察
住友ゴム工業(株)
産業界
産業利用
9
日本
BL47XU
非専有
417
2008B1467
山崎 大輔
(Mg,Fe)SiO3ペロフスカイトとフェロペリクレース混合相中の3次元相分布観察: 下部マントルのレオロジー
岡山大学
大学等
地球・惑星科学
6
日本
BL47XU
非専有
418
2008B1472
望月 伸竜
マイクロビーム蛍光X線分析による火成岩内部のマグネタイト粒子の検出
東京大学
大学等
地球・惑星科学
9
日本
BL47XU
非専有
419
2008B1483
上杉 健太朗
位相ナノトモグラフィーの実用化への検討
JASRI
国公立研究機関等
医学応用
9
日本
BL47XU
非専有
420
2008B1555
安田 秀幸
微量添加Ti、BによるAl合金の結晶粒微細化機構の解明
大阪大学
大学等
物質科学・材料科学
9
日本
BL47XU
非専有
421
2008B1587
竹内 晃久
100nm分解能X線CTの開発
JASRI
国公立研究機関等
ビームライン技術
12
日本
BL47XU
非専有
422
2008B1693
佐藤 暢高
硬X線光電子分光法による半導体材料の解析
東芝ナノアナリシス(株)
産業界
産業利用
3
日本
BL47XU
専有
423
2008B1721
小川 恵三
硬X線光電子分光による多層薄膜素子の界面の構造解析
富士フイルム(株)
産業界
産業利用
6
日本
BL47XU
専有
424
2008B1870
廣沢 一郎
入射角制御微小角入射X線回折法の開発
JASRI
国公立研究機関等
産業利用
6
日本
BL19B2
非専有
425
2008B2108
佐藤 真直
BL19B2におけるX線小角散乱・極小角散乱技術の改良
JASRI
国公立研究機関等
産業利用
6
日本
BL19B2
非専有
426
2008B2111
小金澤 智之
液晶配向膜上の液晶分子配列構造評価II 温度依存性
JASRI
国公立研究機関等
物質科学・材料科学
9
日本
BL19B2
非専有
427
2008B2088
佐藤 真直
アンジュレータビームラインBL46XUを用いた結晶分光型蛍光XAFS技術の検討
JASRI
国公立研究機関等
産業利用
6
日本
BL46XU
非専有