ハイドロキシアパタイト固定化Pd触媒の局所構造解析
Inquiry number
SOL-0000001255
Beamline
BL01B1 (XAFS I)
Scientific keywords
| A. Sample category | inorganic material |
|---|---|
| B. Sample category (detail) | amorphous, glass |
| C. Technique | absorption and its secondary process |
| D. Technique (detail) | XAFS, EXAFS, XANES |
| E. Particular condition | polarization (linear), room temperature |
| F. Photon energy | X-ray (4-40 keV) |
| G. Target information | chemical state, chemical bonding, local structure, function and structure, function |
Industrial keywords
| level 1---Application area | Chemical product, industrial material, others |
|---|---|
| level 2---Target | catalysis, health care（shampoo, cosmetics,dental paste） |
| level 3---Target (detail) | |
| level 4---Obtainable information | local structure, chemical state |
| level 5---Technique | XAFS |
Classification
A80.34 catalysis, M40.10 XAFS
Body text
本事例ではハイドロキシアパタイト（HAP）表面上に固定したPd触媒（PdHAP、濃度：0.16 wt%）についてPd K吸収端で蛍光EXAFS測定を行い、局所構造解析を行いました。蛍光EXAFS法は、極微量な目的元素の周囲の局所構造（近接原子間の距離、配位数、原子種）を解析できる強力な手法です。この触媒は、HAPの組成により、活性を持つ反応の種類（アルコール酸化反応、Heck反応等）を制御できるという特徴を持ちます。EXAFS解析から、図のようにPdはHAPの組成に依存して異なった局所構造を形成しており、それが反応の種類を左右することが分かりました。
図 PdHAP触媒の構造モデル。(A) アルコール酸化反応触媒、(B) Heck反応触媒。
[出典: Journal of the American Chemical Society 124, 11572-11573 (2002), Fig. 1(b), ©2002 The American Chemical Society.]
[ K. Mori, K. Yamaguchi, T. Hara, T. Mizugaki, K. Ebitani and K. Kaneda, Journal of the American Chemical Society 124, 11572-11573 (2002), Fig. 1（ｂ）,
©2002 American Chemical Society ]
Source of the figure
Original paper/Journal article
Journal title
K. Mori et al., J. American Chem. Soc., 124, (2002) 11572-11573
Figure No.
1（ｂ）
Technique
希薄試料のXAFSスペクトルは、目的元素の吸収端付近で、試料からの蛍光X線量をX線エネルギーの関数として測定することで得られます（蛍光XAFS法）。1-1000 ppm程度の希薄試料の場合、検出器として19素子Ge-SSDを用います。本事例の場合、計測時間は、1測定あたり1-1.5時間程度です。
Source of the figure
No figure
Required time for experimental setup
4 hour(s)
Instruments
| Instrument | Purpose | Performance |
|---|---|---|
| XAFS測定装置 | XAFSスペクトルの計測 | .8-113 keV |
| 19素子Ge検出器 | 希薄・薄膜試料の蛍光XAFSの測定 | 濃度：1-1000 ppm、膜厚：0.1-100 nm |
References
| Document name |
|---|
| K. Mori et al., J. American Chem. Soc., 124, (2002) 11572 |
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Questionnaire
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