クイックXAFS(QXAFS)
Inquiry number
SOL-0000001257
Beamline
BL01B1 (XAFS I)
Scientific keywords
A. Sample category | research on method, instrumentation |
---|---|
B. Sample category (detail) | metal, alloy |
C. Technique | absorption and its secondary process |
D. Technique (detail) | XAFS, EXAFS, XANES |
E. Particular condition | polarization (linear), time-resolved (slow), room temperature |
F. Photon energy | X-ray (4-40 keV) |
G. Target information | chemical state, local structure, function and structure |
Industrial keywords
level 1---Application area | Semiconductor, electric component, display, storage device, cell (battery), mechanics, construction, environment, Chemical product, industrial material |
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level 2---Target | compound semiconductor, condenser, LCD, PDP、FED, HD,MO, CD-R、DVD, rechargeable battery, and solar cell, fuel cell, catalysis, fiber, Environmental material, health care(shampoo, cosmetics,dental paste) |
level 3---Target (detail) | phosphor, magnetic layer, electric rod, ash, protein |
level 4---Obtainable information | local structure, electronic state, valence, chemical state |
level 5---Technique | XAFS, NEXAFS |
Classification
A80.20 metal ・material, A80.30 inorganic material, A80.32 organic material, A80.34 catalysis, M40.10 XAFS
Body text
XAFS法は、結晶及び非結晶の試料に対して、目的元素の周囲の局所構造(近接原子間の距離、配位数、原子種)や、電子構造(価数、近接原子種)を解析できる強力な手法です。クイックXAFS(QXAFS)法は、高速にXAFSデータを計測する測定手法です。BL01B1では現在、透過法XAFS測定のほとんどがQXAFS法で行われており、3-15分(従来法の1/2-1/5)で高質なデータ計測が可能です。また、数秒から数十秒の時間分解能で時分割QXAFS測定が可能です。QXAFSは、エネルギー分散型XAFS(DXAFS)と異なり、蛍光法および転換電子収量法にも適用できる点に利点があります。
図 PdフォイルのPd K吸収端XAFSスペクトルから抽出したEXAFS振動の比較。
( )内は計測時間。Step scanは従来法を指す。
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Description
第7回XAFS討論会予稿集
Technique
QXAFS法では、分光器を連続的にスキャンしXAFSデータを計測します。機械的な最小時間分解能は分光器の最高スキャン速度により決まりますが、実際の時間分解能は得られた測定データの質を判断して決めます。
図 透過法QXAFSにおける制御の流れ
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Description
研究会プレゼン資料
Required time for experimental setup
2 hour(s)
Instruments
Instrument | Purpose | Performance |
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XAFS測定装置 | XAFSスペクトルの計測 | 3.8-113 keV |
ライトル検出器 | 希薄・薄膜試料の蛍光XAFSの測定 | 濃度:1000 ppm以上、膜厚:10 nm以上 |
転換電子収量検出器 | 高濃度の薄膜試料のXAFS測定 | 測定膜厚:0.5nm以上 |
References
Document name |
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第7回XAFS討論会予稿集 |
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Questionnaire
This solution is an application of a main instrument of the beamline.
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Ease of measurement
Easy
Ease of analysis
Easy
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Less than one shift