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クイックXAFS(QXAFS)

  • For beginners

Inquiry number

SOL-0000001257

Beamline

BL01B1 (XAFS I)

Scientific keywords

A. Sample category research on method, instrumentation
B. Sample category (detail) metal, alloy
C. Technique absorption and its secondary process
D. Technique (detail) XAFS, EXAFS, XANES
E. Particular condition polarization (linear), time-resolved (slow), room temperature
F. Photon energy X-ray (4-40 keV)
G. Target information chemical state, local structure, function and structure

Industrial keywords

level 1---Application area Semiconductor, electric component, display, storage device, cell (battery), mechanics, construction, environment, Chemical product, industrial material
level 2---Target compound semiconductor, condenser, LCD, PDP、FED, HD,MO, CD-R、DVD, rechargeable battery, and solar cell, fuel cell, catalysis, fiber, Environmental material, health care(shampoo, cosmetics,dental paste)
level 3---Target (detail) phosphor, magnetic layer, electric rod, ash, protein
level 4---Obtainable information local structure, electronic state, valence, chemical state
level 5---Technique XAFS, NEXAFS

Classification

A80.20 metal ・material, A80.30 inorganic material, A80.32 organic material, A80.34 catalysis, M40.10 XAFS

Body text

XAFS法は、結晶及び非結晶の試料に対して、目的元素の周囲の局所構造(近接原子間の距離、配位数、原子種)や、電子構造(価数、近接原子種)を解析できる強力な手法です。クイックXAFS(QXAFS)法は、高速にXAFSデータを計測する測定手法です。BL01B1では現在、透過法XAFS測定のほとんどがQXAFS法で行われており、3-15分(従来法の1/2-1/5)で高質なデータ計測が可能です。また、数秒から数十秒の時間分解能で時分割QXAFS測定が可能です。QXAFSは、エネルギー分散型XAFS(DXAFS)と異なり、蛍光法および転換電子収量法にも適用できる点に利点があります。

図 PdフォイルのPd K吸収端XAFSスペクトルから抽出したEXAFS振動の比較。
( )内は計測時間。Step scanは従来法を指す。

 

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Private communication/others

Description

第7回XAFS討論会予稿集

Technique

QXAFS法では、分光器を連続的にスキャンしXAFSデータを計測します。機械的な最小時間分解能は分光器の最高スキャン速度により決まりますが、実際の時間分解能は得られた測定データの質を判断して決めます。

qxafs_2.png

図 透過法QXAFSにおける制御の流れ

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Description

研究会プレゼン資料

Required time for experimental setup

2 hour(s)

Instruments

Instrument Purpose Performance
XAFS測定装置 XAFSスペクトルの計測 3.8-113 keV
ライトル検出器 希薄・薄膜試料の蛍光XAFSの測定 濃度:1000 ppm以上、膜厚:10 nm以上
転換電子収量検出器 高濃度の薄膜試料のXAFS測定 測定膜厚:0.5nm以上

References

Document name
第7回XAFS討論会予稿集

Related experimental techniques

Questionnaire

This solution is an application of a main instrument of the beamline.
Similar experiments account for more than 30% of the beamline's subject.
This solution is application of a new instrument installed in the past two years.

Ease of measurement

Easy

Ease of analysis

Easy

How many shifts were needed for taking whole data in the figure?

Less than one shift

Last modified