Various measurement with the PFY-XAFS(Partial Fluorescence Yield XAFS)
問い合わせ番号
SOL-0000001230
ビームライン
BL15XU（理研 物質科学III）
学術利用キーワード
| A. 試料 | 無機材料 |
|---|---|
| B. 試料詳細 | 金属・合金, 半導体, 超伝導体, 磁性体, 誘電体・強誘電体, 絶縁体・セラミックス, 結晶性固体, 非晶質、ガラス |
| C. 手法 | 吸収、及びその二次過程, 蛍光Ｘ線 |
| D. 手法の詳細 | XAFS, EXAFS, XANES, 微量元素分析 |
| E. 付加的測定条件 | 偏光（直線）, 偏光（円、楕円）, 超高真空, 表面, 界面, 低温（〜液体窒素） |
| F. エネルギー領域 | 中間エネルギー（2-4 keV）, Ｘ線（4～40 keV) |
| G. 目的・欲しい情報 | 局所構造, 構造変化 |
産業利用キーワード
| 階層1 | |
|---|---|
| 階層2 | |
| 階層3 | |
| 階層4 | 原子間距離, 局所構造 |
| 階層5 | XAFS |
分類
M40.10 XAFS
利用事例本文
PFY-XAFS (Partial Fluorescence Yield - XAFS)
Beside transmission mode XAFS from samples with well defined thickness and uniform composition, PFY-XAFS measurements can be performed using the X-ray Emission Double Crystal Spectrometer installed at BL15XU for a large variety of samples, both thick (bulk) and thin-films, interfaces, nano-scale crystals, dopants, or liquid samples, under both atmospheric and high vacuum conditions, at room temperature and low temperature conditions.
The high resolution of the double crystal x-ray emission spectrometer (typically dE/E ~ 104) allows to separate the in/elastic scattering of the incident beam from the detected signal, and record the XAFS features from the fluorescence signal of a specified emission line (Ka1, La1, Lb1, etc.)
- X-rays at sample
- ID helical :
- YB66 : 1.1 - 3.8 keV ; dE/E = 104 - 105
- Si111: 2.2 - 4.5 keV; dE/E = 104 - 105
- ID linear:
- Si111: 4.0 - 19.5 keV; dE/E = 104 - 105
- ID helical :
画像ファイルの出典
図なし
測定手法
PFY-XANES
画像ファイルの出典
図なし
測定準備に必要なおおよその時間
時間
測定装置
| 装置名 | 目的 | 性能 |
|---|---|---|
| Double-crystal x-ray emission spectrometer |
参考文献
関連する手法
TFY-XAFS (total fluorescence yield)
TEY-XAFS (total electron yield )
アンケート
本ビームラインの主力装置を使っている
同種実験は本ビームラインの課題の30%以上を占めている
最近2年以内に導入した装置を使った事例
測定の難易度
初心者でもOK
データ解析の難易度
中程度
図に示した全てのデータを取るのにかかったシフト数
2～3シフト