RDF of In2O3 film
問い合わせ番号
SOL-0000000950
ビームライン
BL19B2(X線回折・散乱 II)
学術利用キーワード
A. 試料 | 無機材料 |
---|---|
B. 試料詳細 | 誘電体・強誘電体, 絶縁体・セラミックス |
C. 手法 | X線回折 |
D. 手法の詳細 | 斜入射X線回折/散乱 |
E. 付加的測定条件 | 室温 |
F. エネルギー領域 | X線(4~40 keV) |
G. 目的・欲しい情報 | 構造解析 |
産業利用キーワード
階層1 | 電子部品, ディスプレイ, 工業材料 |
---|---|
階層2 | LCD, PDP、FED |
階層3 | 電極 |
階層4 | 液体・非晶質構造 |
階層5 | GIXS |
分類
A80.10 エレクトロニクス, A80.30 無機材料, M10.30 表面・界面構造回折
利用事例本文
Grazing incidence X-ray scattering is performed by observing scattered X-ray profiles reflecting atomic arrangement of thin film on substrate. In this solution, radial distribution function of amorphous In2O3 film on substrate were obtained.
Radial distribution function of In2O3 film
画像ファイルの出典
私信等、その他
詳細
出光興産 島根氏提供
測定手法
Grazing incidence X-ray scattering is performed by observing scattered X-ray profiles reflecting atomic arrangement of thin film on substrate. In this solution, radial distribution function of amorphous In2O3 film on substrate were obtained.
画像ファイルの出典
図なし
測定準備に必要なおおよその時間
1 シフト
測定装置
装置名 | 目的 | 性能 |
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Multi-axis diffractometer | diffraction | 4axes and 2axes |
参考文献
文献名 |
---|
I. Hirosawa et.al.,Transactions of the Materials Research Society of Japan, 30 (2005) 221-224 |
関連する手法
アンケート
SPring-8だからできた測定。他の施設では不可能もしくは難しい
本ビームラインの主力装置を使っている
測定の難易度
中程度
データ解析の難易度
中程度
図に示した全てのデータを取るのにかかったシフト数
2~3シフト