研究分野別　目次
支援テーマ別　目次

1.エレクトロニクス
　 情報ストレージ

2.新規物質、表面・ナノ
　 結晶・ナノサイズ効果

3.エネルギー材料

4.環境関連物質評価

5.基盤技術開発
5 基盤技術開発
5.1　ナノ構造イメージング等
走査型硬X線顕微鏡によるFe-Ｋ吸収端における元素別磁気イメージング ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出2,160KB
高垣　昌史　　　　　　　高輝度光科学研究センター
表面および強磁性、反強磁性金属との界面におけるNiO反強磁性磁区ドメイン構造の観察 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,668KB
奥田　太一　　　　　　　東京大学　物性研究所
光電子顕微鏡を用いた界面ナノ構造のイメージング ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出2,207KB
小野　寛大　　　　　　　高エネルギー加速器研究機構
K-Bミラーを用いたマイクロビーム蛍光X線分析システムの開発 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出2,334KB
寺田　靖子　　　　　　　高輝度光科学研究センター
SPELEEMを用いたナノ構造材料の観察と
　　　　　　　　　　　　　 新しい収差補正法を用いた高分解能光電子顕微鏡の予備実験		 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,287KB
越川　孝範　　　　　　　大阪電気通信大学　エレクトロニクス基礎研究所
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