非晶質透明導電膜の構造評価
Inquiry number
SOL-0000001408
Beamline
BL19B2 (X-ray Diffraction and Scattering II)
Scientific keywords
| A. Sample category | inorganic material |
|---|---|
| B. Sample category (detail) | ferroelectric material, insulator, ceramics |
| C. Technique | X-ray diffraction |
| D. Technique (detail) | grazing incidence X-ray diffraction/scattering |
| E. Particular condition | room temperature |
| F. Photon energy | X-ray (4-40 keV) |
| G. Target information | structure analysis |
Industrial keywords
| level 1---Application area | electric component, display, industrial material |
|---|---|
| level 2---Target | LCD, PDP、FED |
| level 3---Target (detail) | electric rod |
| level 4---Obtainable information | structure of non-crystalline material |
| level 5---Technique | GIXS |
Classification
A80.10 electronics, A80.30 inorganic material, M10.30 surface・interface diffraction
Body text
本事例では非晶質透明導電膜In2O3について微小角入射X線散乱を行い、非晶質In2O3の構造（動径分布関数）を解析しました。微小角入射X線散乱は、試料表面に極く浅い角度でX線を入射することにより基板上に形成された薄膜から散乱されるX線を感度よく測定する手法です。このデータから、非晶質In2O3はIn2O3結晶と比較してIn-O間距離が若干短く、In-O-Inの結合角の分布が広いことが明らかになりました。
15KeVで測定された散乱強度プロファイルより得られたIn2O3膜の動径分布関数
Source of the figure
Private communication/others
Description
出光興産 島根氏提供
Technique
微小角入射X線散乱は、基板上の薄膜からの散乱X線強度を測定することで膜構造の評価を行います。この例では、主として非晶質In2O3膜中のInからの動径分布に関する知見が得られます。
Source of the figure
No figure
Required time for experimental setup
1 shift(s)
Instruments
| Instrument | Purpose | Performance |
|---|---|---|
| 多軸回折計 | 散乱、回折の測定 | ４軸＋２軸 |
References
| Document name |
|---|
| I. Hirosawa et.al.,Transactions of the Materials Research Society of Japan, 30 (2005) 221-224 |
Related experimental techniques
Questionnaire
The measurement was possible only in SPring-8. Impossible or very difficult in other facilities.
This solution is an application of a main instrument of the beamline.
Ease of measurement
Middle
Ease of analysis
Middle
How many shifts were needed for taking whole data in the figure?
Two-three shifts