大型放射光施設 SPring-8

問い合わせ番号

SOL-0000000973

ビームライン

BL29XU（理研 物理科学I）

学術利用キーワード

A. 試料	計測法、装置に関する研究
B. 試料詳細	半導体
C. 手法	Ｘ線弾性散乱
D. 手法の詳細	反射、屈折
E. 付加的測定条件	マイクロビーム(<1μｍ)
F. エネルギー領域	Ｘ線（4～40 keV)
G. 目的・欲しい情報	局所構造

産業利用キーワード

階層1	その他
階層2
階層3
階層4	局所構造
階層5	反射率

分類

A30.20 表面界面物性

利用事例本文

The development of ultra-precise x-ray total reflection mirrors has been promoting technological innovation in nano-focusing x-ray optics. Mirrors with an atomic-precision surface figure can be manufactured by combining the two technologies of CVM (Chemical Vaporization Machining) and EEM (Elastic Emission Machining).
The following figure shows the result of 2D nano-focusing with two focusing mirrors in the Kirkpatrick-Baez configuration. Diffraction limited focusing with a focal size of 36 nm 48 nm was achieved.

Fig. Intensity profile of nano-focusing beam.

[ H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, H. Hara, K. Yamamoto, Y. Sano, M. Shibahara, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa and K. Yamauchi, Japanese Journal of Applied Physics 44, L539-L542 (2005), Fig. 3,
©2005 The Japan Society of Applied Physics ]

画像ファイルの出典

原著論文/解説記事

誌名

H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, H. Hara, K. Yamamura, Y. Sano, M. Shibahara, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, and K. Yamauchi, Jpn. J. Appl. Phys. 44, L539-L542 (2005)

図番号

3

測定手法

Two-dimensional focusing of an x-ray beam is performed using two focusing mirrors in the Kirkpatrick-Baez configuration.

Fig. Two-dimensional focusing of an x-ray beam using Kirkpatrick-Baez mirror system.

[ H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, H. Hara, K. Yamamura, Y. Sano, M. Shibahara, K. Endo, Y. Mori and T. Noshino, Japanese Journal of Applied Physics 44, L539-L542 (2005), Fig. 1,
©2005 The Japan Society of Applied Physics ]

画像ファイルの出典

原著論文/解説記事

誌名

H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, H. Hara, K. Yamamura, Y. Sano, M. Shibahara, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, and K. Yamauchi, Jpn. J. Appl. Phys. 44, L539-L542 (2005)

図番号

1

測定準備に必要なおおよその時間

24 時間

測定装置

装置名	目的	性能
Kirkpatrick-Baez type x-ray focusing system

参考文献

文献名
S. Matsuyama, H. Mimura, H. Yumoto, K. Yamamura, Y. Sano, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, M. Yabashi, and K. Yamauchi, Rev. Sci. Instrum. 76, 083114 (2005)
H. Yumoto, H. Mimura, S. Matsuyama, H. Hara, K. Yamamura, Y. Sano, K. Ueno, K. Endo, Y. Mori, M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, and K. Yamauchi, Rev. Sci. Instrum. 76, 063708 (2005)
H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, H. Hara, K. Yamamura, Y. Sano, M. Shibahara, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, and K. Yamauchi, Jpn. J. Appl. Phys. 44, L539-L542 (2005)
H. Mimura, H. Yumoto, S. Matsuyama, K. Yamamura, Y. Sano, K. Ueno, K. Endo, Y. Mori, M. Yabashi, K. Tamasaku, Y. Nishino, T. Ishikawa, and K. Yamauchi, Rev. Sci. Instrum. 76, 045102 (2005)
H. Mimura, K. Yamauchi, K. Yamamura, A. Kubota, S. Matsuyama, Y. Sano, K. Ueno, K. Endo, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, and Y. Mori, J. Synchrotron Rad. 11, 343-346 (2004)
K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, and Y. Mori, Jpn. J. Appl. Phys. 42, 7129-7134 (2003)
K. Yamamura, K. Yamauchi, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, and Y. Mori, Rev. Sci. Instrum. 74, 4549-4553 (2003)
K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K. Ueno, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, and Y. Mori, Rev. Sci. Instrum. 74, 2894-2898 (2003)
K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, and Y. Mori, J. Synchrotron Rad. 9, 313-316 (2002)
A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, Y. Mori, K. Yamauchi, K. Yamamura, and A. Saito, J. Synchrotron Rad. 9, 223-228 (2002)

関連する手法

アンケート

ユーザー持ち込み装置を使った

測定の難易度

熟練が必要

データ解析の難易度

中程度

図に示した全てのデータを取るのにかかったシフト数

4～9シフト