支援テーマ別　目次
　 研究分野別　目次

1.テーマN1〜
　　テーマN3

2.テーマN4〜
　　テーマN6

3.テーマN7〜
　　テーマN9

4.テーマN10〜
　　テーマN14
テーマN4 新規ナノ材料の精密結晶構造評価　（BL02B2）
非晶質KNbO3･SiO2からKNbO3ナノ結晶生成及び構造相転移 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,168KB
梁　龍錫　　　　　　　　釜山大学　ナノ科学技術部
二核銅錯体の分子カラム間距離制御に対する溶媒包接の構造物性 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,938KB
長谷川　美貴　　　　　　青山学院　大学理工学部
多孔性配位高分子のナノ空間中での水素分子の特異的凝集状態の直接観測 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,829KB
北川　進　　　　　　　　京都大学大学院　工学研究科
マイクロ流体リアクターで合成したコア/シェル型蛍光ナノクリスタルの構造解析 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出2,463KB
上原　雅人　　　　　　　産業技術総合研究所
チーオル化カーボンナノチューブに担持された
　　　　　　　　　　　　 白金クラスターの熱処理によるin-situ構造変化解析		 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,288KB
三谷　忠興　　　　　　　北陸先端科学技術大学院大学　材料科学研究科　
イオン伝導性硫化物ガラスのX線回折解析 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出2,059KB
島川　祐一　　　　　　　京都大学　化学研究所
SiO2で被覆されたFePtナノ微粒子の構造変化の精密結晶構造解析による評価 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,795KB
山本　真平　　　　　　　京都大学　化学研究所
次元性の観点からのC60ナノウィスカーの構造解析 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,580KB
谷垣　勝己　　　　　　　東北大学大学院　理学研究科
高密度水素吸蔵金属ナノ粒子の粉末X線回折 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,580KB
山内　美穂　　　　　　　九州大学大学院　理学研究院
 
テーマN5 X線マイクロビームによる顕微分光、トモグラフィー　（BL47XU）
硬X線光電子分光による強相関電子系強磁性酸化物ナノ薄膜の電子状態評価 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,373KB
田中　秀和　　　　　　　大阪大学　産業科学研究所
高分解能高エネルギーX線光電子分光による次世代半導体プロセス用
　　　　　　　　　　　 極浅プラズマドーピング層のキャリア濃度の非破壊評価		 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出3,506KB
金　成国　　　　　　　　株式会社　ユー・ジェー・ティー・ラボ
硬X線光電子分光による高誘電率ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の深さ方向分析 酸素分子の運動エネルギー励起によるＳｉ（111）表面のナノスケール選択酸化1,796KB
服部　健雄　　　　　　　武蔵工業大学　工学部
偏晶系凝固と塑性加工を利用したマイクロ・ナノポーラス材料創成のための三次元構造解析 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出2,032KB
安田　秀幸　　　　　　　大阪大学大学院　工学研究科
硬X線光電子分光法によるゲート電極/ゲート絶縁膜界面の解析 酸素分子の運動エネルギー励起によるＳｉ（111）表面のナノスケール選択酸化1,939KB
竹村　モモ子　　　　　　株式会社　東芝
テーマN6 微粒子及びナノ薄膜の電子分光　（BL27SU）
ナノチューブ成長用触媒金属のSi清浄表面および
　　　　　　　　　　　　 酸化膜表面における反応過程のSPELEEMによる研究		 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,344KB
前田　文彦　　　　　　　NTT物性科学基礎研究所
軟X線光電子分光による極薄ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の深さ方向分析 軟X線発光・吸収分子による薄膜シリコン酸窒化膜界面の電子構造研究1,393KB
服部　健雄　　　　　　　武蔵工業大学　工学部
表面および強磁性、反強磁性金属との界面におけるNiO反強磁性磁区ドメイン構造の観察 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,658KB
奥田　太一　　　　　　　東京大学　物性研究所
SPELEEMを用いたナノ構造材料の観察と
　　　　　　　　　　　　 新しい収差補正法を用いた高分解能光電子顕微鏡の予備実験		 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,287KB
越川　孝範　　　　　　　大阪電気通信大学　エレクトロニクス基礎研究
Adobe Readerのダウンロード研究成果報告書を見るためにはAdobe Readerが必要です